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    設計波長 DWL (nm)
    波長域 (nm)
    基板
    設計入射角 (°)
    直径 (mm)
    to
    反射率 (@設計波長) (%)
    拡大力 (ズーム範囲)

    特殊レーザーミラー

    特殊レーザーミラーは、従来のミラーでは対応することのできないレーザーアプリケーションに対してソリューションを提供できるようデザインされています。特殊レーザーミラーは、レーザーの波長を選択的に透過または反射するようデザインされたビーム合成や分離用のものから、極端紫外 (EUV) で最大限の反射率を実現するようデザインされたものまで多岐にわたります。

    エドモンド・オプティクスは、様々なアプリケーションの要求にお応えするため、様々な特殊レーザーミラーを在庫販売しています。極端紫外 (EUV) 平面ミラーは、高解像EUVイメージングやEUV分光、ナノマシニングを始めとする新興のEUVアプリケーション用にラインナップします。ダイクロイック・レーザービームコンバイナーは、レーザー波長を選択的に透過・反射させ、レーザー顕微鏡のようなアプリケーションに最適にします。ナイフエッジ・ピックオフミラーは、金属膜コーティング付きでラインナップし、コーティングは「ナイフエッジ」部にまで施されています。空間的に近接した2本のレーザービームを分離でき、その際に高反射率を実現します。ガウシアン反射率ミラーは、ミラーの中心からラジアル方向に対して減少する反射プロファイルをもち、レーザー共振器の安定化を可能にします。


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