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ミラー (表面鏡)

超短パルスレーザー用凹面反射強化銀ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
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超短パルスレーザー用凹面反射強化銀ミラー
  • チタンサファイヤパルスレーザーの集光用に最適
  • 600 - 1000nmで99%を超える反射率
  • 0±20fs2の低群遅延分散 (GDD)
  • 25 - 500mm までの焦点距離
Cailabs Canunda アキシコンミラー NEW
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Cailabs Canunda アキシコンミラー
  • 反射設計による高出力ベッセルビーム伝搬
  • 超短パルスレーザーアプリケーション向けに波長分散を排除
  • 複数のアキシコン角度とコーティングオプションをラインナップ
  • 製造メーカーの仕様適合認定書付属
超広帯域 (相補型) チャープミラーペア NEW
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超広帯域 (相補型) チャープミラーペア
  • 超短パルスレーザーアプリケーションの分散補償に最適
  • 3fs未満のパルスの分散補償をサポートする超広帯域デザイン
  • 60fs2の負GDDとRp> 99%の平均反射率 @ 650 - 1350nm
超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
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超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー
  • 600 - 1000nmで99%を超える反射率
  • 0±20fs2の低群遅延分散
  • チタンサファイヤレーザーに最適
  • 標準的インチサイズをラインナップ
非軸楕円面ミラー
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非軸楕円面ミラー
  • <100Åの面粗さにより低散乱を実現
  • ダイヤモンドターニング加工したアライメント面
  • 単位共役の反射に最適
45°超短パルス チャープミラー NEW
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45°超短パルス チャープミラー
  • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
  • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
  • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
1030nm 高分散超短パルスミラー NEW
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1030nm 高分散超短パルスミラー
  • 7°入射で -1000fs2 までの高次群遅延分散 (GDD)
  • 60nmの帯域幅で99.8%超の最小反射率 (p偏光)
  • Ybドープファイバーレーザーの分散補償用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
1030nm 高分散広帯域超短パルスミラー NEW
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1030nm 高分散広帯域超短パルスミラー
  • 5°入射で -200fs2 の群遅延分散 (GDD)
  • 950 - 1120nm 間で 99.8%超の反射率 (p偏光)
  • Ybドープファイバーレーザーのパルス圧縮用にデザイン
  • 広帯域ウルトラファスト用チャープコーティング
800nm 高分散超短パルスミラー NEW
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800nm 高分散超短パルスミラー
  • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
  • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
  • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
2μm 高分散広帯域超短パルスミラー NEW
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2μm 高分散広帯域超短パルスミラー
  • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
  • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
  • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
  • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング
未コート 凹面レーザーミラー
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未コート 凹面レーザーミラー
  • レーザー集光用途に最適
  • 高精度な合成石英製ミラーブランク
  • 特注コーティングオプションに対応
低GDD 超短パルスレーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
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低GDD 超短パルスレーザーミラー
  • 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
  • イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
  • 設計波長域で 0±20fs2 のGDD (群遅延分散)
アライメント用貫通穴付き非軸放物面ミラー
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アライメント用貫通穴付き非軸放物面ミラー
  • 一点集光ビームやコリメートビームに平行に貫通穴加工
  • 複数の金属膜コーティングをラインナップ
  • <50Å RMSの面粗さ
極端紫外 (EUV) 用球面ミラー
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極端紫外 (EUV) 用球面ミラー
  • スーパーポリッシュ基板上にMo/Si 多層コーティング
  • 13.5nmで最大の反射率を達成
  • EUVビームの集光アプリケーション用にデザイン
  • 高次高調波発生に向けた狭帯域パスバンド特性
レーザーライン凹面ミラー
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レーザーライン凹面ミラー
  • レーザー光の一点集光用に最適
  • 中心波長で99.8%を超える反射率
  • 熱的安定性に優れた合成石英基板を採用
極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
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極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
  • 13.5nmで最大の反射率を達成
  • 極端紫外のビームステアリングや高調波分離用にデザイン
  • 入射角5°と45°をラインナップ

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