レーザーライン用プレート型無偏光ビームスプリッター - 高レーザー耐力を提供

米国Edmund Optics® (EO)の日本法人、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社は、レーザーライン用プレート型無偏光ビームスプリッターの発売を開始した。本ビームスプリッターは、入射ビームの偏光状態に影響を受けずに分岐し、偏光の制御が重要となる要求の厳しい様々なレーザーアプリケーションでの使用に最適である。

λ/8 の基板面精度

レーザーライン用プレート型無偏光ビームスプリッターは、1064nmにおいて6J/cm² (10nsパルス)の高レーザー耐力特性を有している。基板上に誘電体膜を積層することにより、システム性能を向上させながら、入射ビームの偏光状態を維持する。1025~1095nm用のコーティングは、Nd:YAGやYb:KGW、Yb:YAGを始めとする産業用で最も市販されているレーザーに向けてデザインされている。フェムト秒レーザーアプリケーション向けには、入射ビームのパルス幅を維持するようにデザインされた低GDDコーティングも提供する。また波面歪みを最小化するために、λ/8の基板面精度を備えている。

直径25.4mmの4種類のモデルをラインナップ

レーザーライン用プレート型無偏光ビームスプリッターは、直径が25.4mmで、設計波長が355nm、515-532nm、770-830nm、1025-1095nmの4種類をラインナップ。合成石英製基板を用いて作られた本製品は、22.9mm以上の有効径 (CA)を有する。欧州RoHS指令に適合した本ビームスプリッターは、耐久性においてMIL-C-675A規格に適合している。レーザーライン用プレート型無偏光ビームスプリッターは、全品在庫販売体制により、お客様に短納期で供給する。