極端紫外 (EUV) 用球面ミラー

極端紫外 (EUV) 用球面ミラーは、Mo/Si 多層コーティングの採用により、13.5nmで60%以上の反射率を実現します。非偏光のEUVレーザー光源の集光用に向け、5°の入射角度でデザインされています。3Å RMS 未満の表面粗さにより、散乱を最小化します。これは、長波長よりも散乱が多くなるEUV波長では不可欠になります。極端紫外 (EUV) 用球面ミラーは、0.5nmほどの非常に狭いパスバンド特性により、13.5nmの倍波のみに関心がある高次高調波発生 (HHG) 用途での反射を確実にします。EUV用球面ミラーの代表的アプリケーションに、コヒーレント回折イメージング (CDI)、EUVイメージング、EUVナノマシニングがあります。

補足： ミラーの各製造ロットのサンプルテストデータ付きです。