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UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラー

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors

-145fs²の負のGDD
255 - 277nm間で5°の入射角
UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
独自のUV負分散超短パルス用コーティング

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラーは、優れた熱安定性をもつ25.4mm径の合成石英基板を採用し、UV アプリケーション内への実装を可能にします。分散光学干渉に基づき、超短パルス用チャープコーティングがこのミラーに-145fs²の負のGDDを提供します。ビーム安定性を高度に制御するようにデザインされており、255 - 277nm間で80％超 (p偏光) の反射率が得られます。本ミラーは、5°の設計入射角で一対の超短パルス用ミラー間の反射回数を最大化しながら、設置面積を小さく維持します。UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラーは、チタンサファイアレーザーの3次高調波やYbドープレーザーの4次高調波からの生成など、UV超短レーザーパルスの圧縮を可能にします。ご使用のレーザーシステムが特注のサイズや波長、もしくはパルス特性を必要とする場合は、お問い合わせください。