Name: TS 超短パルス用レーザーミラー 25.4mm 760-840nm
SKU: 85-103
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TS 超短パルス用レーザーミラー 25.4mm 760-840nm

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表面品質 (キズ-ブツ):

20-10

タイプ:

Laser Mirror

代表的用途:

Ti:Sapphire 1st Harmonic

平行度 (分):

有効径 (%):

>80

耐久性:

MIL-C-675A

基板裏面側:

Commercial Polish

コーティングスペック:

R_avg >99% @ 760 - 840nm

GDD スペック:

0 ±30fs² @ 740-860nm

波長域 (nm):

760 - 840

平面度 (P-V):

λ/8

コーティングタイプ:

Dielectric

コーティング:

Ultrafast (760-840nm)

設計波長 DWL (nm):

800

直径 (mm):

25.40 +0.0/-0.1

全厚 (mm):

5.00 ±0.1

入射角 (°):

Fused Silica (Corning 7980)

1000-on-1: >0.25 J/cm² @ 800nm, 100fs, 100Hz

環境規制対応状況

RoHS 2015/863:

適合

適合証明書:

内容を見る

Reach 233:

適合

製品群全体の紹介

99％を超える反射率
360~3300nm に対応するコーティングデザイン
低群遅延分散 (GDD)
TECHSPEC® 低GDD 超短パルスレーザーミラーもラインナップ

低群遅延分散 (GDD) 超短パルス用レーザーミラーは、エルビウム (Er) ガラス、チタンサファイア、またはイッテルビウム (Yb) ドープレーザーを利用するアプリケーション用にデザインされています。このレーザーミラーは、360~3300nm間の波長向けのものをラインナップし、広い波長範囲にわたって最大反射が得られるように最適化しています。誘電体多層コーティングは、GDDが最小となるようにデザインされ、超短パルスビーム転送のアプリケーションに最適にします。低GDD 超短パルス用レーザーミラーは、チタンサファイア、Yb ドープ、ファイバーなどの様々な超短パルスレーザー光源、およびOPA/OPO やOPCPA システムを用いたアプリケーションに向けて低熱膨張基板を採用します。

補足： 波長や入射角度およびサイズの特注はお問い合わせください。