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ウルトラファストレーザーラインミラー 760-840NM 25.4MM

商品コード #85-103
¥19,400
 
数量 1-5
¥19,400
数量 6
¥17,550
数量 6+
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基板:
Fused Silica
スタイル:
Ultrafast
タイプ:
Laser Mirror
コーティングタイプ:
Dielectric
設計波長 DWL (nm):
800
波長域 (nm):
760 - 840
設計入射角 (°):
45
反射率 (@設計波長) (%):
99
コーティングスペック:
Ravg >99% @ 760 - 840nm
直径 (mm):
25.40 +0.0/-0.1
直径公差 (mm):
+0.0/-0.1
厚さ (mm):
5.00
厚み公差 (mm):
±0.25
パルスレーザー耐力:
Typical: >100 mJ/cm2 @ 800nm, 50fs
平面度:
λ/8
裏面の仕上げ:
Commercial Polish
有効径 (%):
>90
コーティング:
Ultrafast (760-840nm)
耐久性:
MIL-C-675A
平行度 (分):
<1
表面品質 (キズ-ブツ):
20-10
代表的用途:
Ti:Sapphire 1st Harmonic
RoHS対応状況:
適合
×

製品群全体の紹介

  • 99%を超える反射率
  • 高レーザー耐力
  • 低群遅延分散 (GDD)

 ウルトラファストレーザーラインミラーは、フェムト秒レーザーアプリケーションでより高い反射率が求められる用途に理想的です。ウルトラファストレーザーラインミラーは、入射角45° の使用でデザインされており、チタンサファイアやエルビウムガラス、或いはイッテルビウムドープ材料のレーザ波長用に最適化しています。多層膜処理とUVグレード合成石英基板の採用により、特定波長でのレーザー耐力と反射率の最大化を確実なものにします。ウルトラファストレーザーラインミラーは、優れたレーザー耐力特性を有し、群遅延分散 (GDD) を最小化するためにデザインされています。

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