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ウルトラファストレーザーラインミラー 760-840NM 25.4MM

設計波長 DWL (nm):
800
波長域 (nm):
760 - 840
直径 (mm):
25.40 +0.0/-0.1
直径公差 (mm):
+0.0/-0.1
設計入射角 (°):
45
反射率 (@設計波長) (%):
99
パルスレーザー耐力:
Typical: >100 mJ/cm2 @ 800nm, 50fs
厚さ (mm):
5.00
厚み公差 (mm):
±0.25
基板:
Fused Silica
スタイル:
Ultrafast
タイプ:
Laser Mirror
コーティングタイプ:
Dielectric
コーティングスペック:
Ravg >99% @ 760 - 840nm
平面度:
λ/8
裏面の仕上げ:
Commercial Polish
有効径 (%):
>90
コーティング:
Ultrafast (760-840nm)
耐久性:
MIL-C-675A
平行度 (分):
<1
表面品質 (キズ-ブツ):
20-10
代表的用途:
Ti:Sapphire 1st Harmonic
RoHS対応状況:
適合
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製品群全体の紹介

  • 99%を超える反射率
  • 266nm - 1550nmのオプションをラインナップ
  • 低群遅延分散 (GDD)

ウルトラファストレーザーラインミラーは、エルビウムガラス、チタンサファイア、もしくはイッテルビウムドープのフェムト秒レーザーを利用するアプリケーション用にデザインされています。 このミラーは、広い波長範囲で最大限の反射が得られるように最適化され、最小の群遅延分散 (GDD) を生み出すためコーティング材料の群速度分散の均衡を図っています。ウルトラファストレーザーラインミラーは、0°と45°の入射角度用にデザインされており、ビームステアリングアプリケーションに最適です。

補足: 波長や角度、サイズといった特注は、お問い合わせください。

レーザーオプティクス

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