13.5nm 極端紫外 (EUV) 用平面ミラーの短納期供給を開始

米国Edmund Optics^® (EO)の日本法人、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社は、極端紫外 (EUV) 用平面ミラーの発売を開始した。このミラーは、精密研磨された多層膜ミラーで、設計波長と入射角 (AOI) で反射率が最大となるようデザインされている。EUV放射のビームステアリングや高調波分離用に最適。

13.5nmで最大反射率

極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、入射角5°と45°用をラインナップし、EUV放射においてもっとも高い反射率の波長である13.5nmでほぼ理想的な反射率になる。RoHS指令に準拠し、スーパーポリッシュされた単結晶シリコン基板にコーティングが蒸着されているため、熱的安定性に優れている。また、このEUV用ミラーは、3Å RMS未満の面粗さをもち、入射光の散乱を大幅に低減する。多層膜の金属/半導体コーティングには、シリコン (Si) が上層のモリブデン (Mo) /Si多層膜も含まれる。平面度は632.8nmの波長でλ/10、板厚は6.35mm。入射角45°のミラーはs偏光のビームステアリングに最適。また、入射角 5°のミラーは非偏光との使用に適している。

CDIおよび材料科学の研究に最適

極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、コヒーレント回折イメージング (CDI) や材料科学といった新しいアプリケーションで使用されている。CDIは、10nmに近い分解能を達成可能な非接触の撮像技術で、非常に小さなナノ構造の分析に使われている。このミラーは、高調波発生 (HHG) ビームの高調波セレクターとしても機能。極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、全品在庫販売体制で、お客様に短納期で供給する。