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    平面度
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    設計波長 DWL (nm)
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    平面ミラー

    平面ミラーは、ビームステアリングやフォールディング、干渉実験、またイメージングシステム内に用いる光学素子として、様々なアプリケーション用にデザインされた光学用ミラーです。加えて、平面ミラーは、ラボやOEMインテグレーションにも最適です。面精度は、基板表面の形状 (平面性)を数値化したものです。面精度が高いと、光の散乱による光量損失を減らすことができます。

    エドモンド・オプティクスは、標準的なものから精密なものまで、広範な光学用平面ミラーをご用意しています。標準的な平面ミラーは、基板材料やサイズ、及び面精度別に最も多い製品群をラインナップします。これらのミラーは、アルミ、金、銀、誘電体を始めとする標準のミラーコーティングをラインナップします。精密平面ミラーは、合成石英かゼロデュア基板のいずれかをラインナップします。ゼロデュアは、周囲温度の変動が問題となるアプリケーションに最適です。増反射用の金属膜コーティングは、アルミ、金、または銀が選べます。金属膜には、耐久性向上のため、誘電体の保護膜がオーバーコートされています。平面ミラーの面精度は、λ/4, λ/8, λ/10, 或いはλ/20をラインナップします。

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    Yb:YAG レーザーミラー
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    Nd:YAG レーザーミラー
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    λ/20 平面ミラー
    • 精密な合成石英基板
    • 20-10 の表面品質
    • 低熱膨張係数
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    λ/10 平面ミラー
    • 精密合成石英基板を使用
    • 豊富なサイズとコーティングオプション
    • 低熱膨張
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    ZERODUR®製λ/10 平面ミラー
    • 精密ZERODUR®基板
    • λ/10の平面度
    • 低熱膨張係数
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    λ/4平面ミラー
    • サイズと形状別に豊富にラインナップ
    • 精密な金属膜ミラーコーティング
    • 特注サイズは、お問い合わせください
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    平面ミラー
    • 形状やサイズ別に広範にラインナップ
    • 豊富なコーティングオプション
    • 特注サイズはお問い合わせください

    4 - 6λ平面ミラー
    • 形状やサイズ別に広範にラインナップ
    • 可視光を90%以上反射
    • 特注サイズはお問い合わせください
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    800nm 高分散超短パルスミラー
    • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
    • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
    • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
    • ウルトラファスト用チャープコーティング
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    2μm 高分散広帯域超短パルスミラー
    • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
    • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
    • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
    • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング
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    レーザーライン λ/20 高精度直角プリズムミラー (斜面コートタイプ)
    • 設計波長で>99.5%の反射率
    • ±15”の角度公差
    • 熱的安定性の高い基板を採用
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    直角プリズムミラー (斜面コートタイプ)
    • 光路を90°曲げて反射
    • 反射面の45°設置のアライメント時間を軽減
    • 反射面に複数の金属膜コーティングを用意
    • 反射面を誘電体多層膜にしたプリズムもラインナップ
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    シリコン半導体スーパーミラー
    • 現在のスーパーミラー技術の中で最も低い機械損失と最も高い熱伝導特性
    • 200ppm 以下の光学損失
    • 約3Åの面粗さ
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    極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
    • 13.5nmで最大限の反射率を達成
    • 極端紫外のビームステアリングや高調波分離用にデザイン
    • 入射角5°と45°をラインナップ
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    45°超短パルス チャープミラー
    • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
    • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
    • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
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    広帯域誘電体膜直角プリズムミラー (斜面コートタイプ)
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    広帯域誘電体膜λ/10平面ミラー
    • 広波長域にわたり99%を超える反射率
    • 入射角 0~45° の全偏光状態向けにデザイン
    • 合成石英基板による卓越した熱的安定性
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    ナイフエッジ・ピックオフミラー
    • コンパクトなD型半円デザイン
    • 45°面取り
    • 複数のコーティングオプション
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    精密オプティカルフラットミラー
    • 合成石英とZERODUR® 基板
    • λ/10 と λ/20 の平面度
    • 豊富なコーティングオプション
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    精密紫外用ミラー
    • 120nmと190nmの設計波長
    • 特定波長域にわたり85%以上の平均反射率を実現
    • 可視域全体での反射率を高める金属膜コーティングを採用
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    λ/8 楕円型平面ミラー
    • 45°設置時の正面開口が円形になるようデザイン
    • 光路の向きを変える用途に最適
    • 豊富なサイズとコーティングオプション
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    Cマウント 平面ミラー
    • 精密なアライメント用に最適
    • 35 x 35mm サイズのミラーを内蔵
    • 50mm H x 38mm W x 38mm D のハウジング寸法
    • ミラーハウジングを個別に購入も可能
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    アルゴンレーザーミラー
    • 低損失な誘電体多層膜コーティング
    • 設計波長帯においてR>98%
    • アルゴンレーザーの全共通波長に最適化

    広帯域 IR レーザーミラー
    • 2~20μmにおいて98%以上の反射率
    • 銅基板製ミラー
    • 高レーザー耐力
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    エキシマレーザーミラー
    • 1.5J/cm2までの高い損傷閾値
    • 低損失な誘電体膜コーティング
    • 193mmおよび248mmレーザーとの使用向けにデザイン
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    高性能レーザーダイオードミラー
    • 設計波長においてR>99.8%を実現
    • 特定波長域に対して卓越した広帯域特性
    • 共通のダイオードレーザー用にデザイン

    メタル基板ミラー
    • 金属膜表面鏡
    • アルミ基板採用; 優れた冷却効果
    • LWIRレーザーアプリケーションに最適
    • アルミと金のコーティングオプション
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    Nd:YAG レーザーミラーキット
    • Nd:YAGの高調波用やデュアルバンド用のミラー6枚で構成
    • 設計波長で99%を超える絶対反射率
    • 高い損傷閾値
    • Nd:YAG レーザーミラーも個別にラインナップ
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    レーザーミラー
    • 保証済みのレーザー損傷閾値
    • UVグレード合成石英基板の採用による優れた熱的及び経時的安定性
    • 設計波長で99%超の反射率
    • 低吸収なイオンビームスパッタリング (IBS) のコーティングオプション
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    精密広帯域レーザーミラー
    • チューナブルレーザーや複数のレーザー光源の反射用に最適
    • 入射角 0~45° の全偏光状態に対して高反射率を実現
    • 豊富なコーティングオプション
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    シリコン基板製ゴールドミラー
    • 卓越した熱的安定性
    • 計量化を求めるアプリケーションに最適
    • ガラス基板製のミラーよりも高い耐久性

    超短パルスレーザーミラー
    • 99%を超える反射率
    • >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800nm の典型損傷閾値
    • 低群遅延分散 (GDD)

    可視光レーザーダイオード用ミラー
    • 可視光レーザーダイオードの発振波長で95%以上の反射率
    • 複数の反射面を持つシステムに最適
    • コーティングは、波長 633nmで45°の入射時に最適化
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    レーザーミラー基板
    • λ/10の平面度と10-5の表面品質
    • 高品質合成石英基板
    • 円形もしくは矩形形状のインチサイズ

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