超短パルスレーザーミラー
超短パルスレーザーミラーは、高いレーザー誘起損傷閾値が得られるようにデザインされ、超短パルスレーザー入射時に99%を超える反射率が得られます。本ミラーは、特定波長域に対して群遅延分散 (GDD) や群速度分散 (GVD) を最小化することで、パルス幅の時間的広がりや圧縮効果に対抗します。GDDやGVDの最小化は、高い反射率と低GDDが同時に行われるよう、コーティング積層を慎重に選定することによって達成されます。超短パルスレーザーミラーは、材料加工や分光解析、バイオメディカル産業を始め、様々なアプリケーションで用いられます。エドモンド・オプティクスは、あなたの特定アプリケーションに対応するため、波長や入射角度別に様々なオプションをご用意しています。
超短パルス用反射強化銀コート付きシリコンレーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
- シリコン基板で熱的要求の厳しい超短パルス構成に対応
- チタンサファイヤやYbベースの超短パルスレーザーシステムに最適
- 低分散が重要になるウルトラファストパルス反射用にデザイン
- 対象の波長範囲で30fs²未満のGDD
Ybドープ ダイクロイックミラー
- 1030nmで高反射率 & 940nmで高透過率
- <±100fs2 の低群遅延分散 (GDD)
- イッテルビウム (Yb) レーザーに最適なダイクロイックミラー
PeakPower 高LDT 低GDD 超短パルス用ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
- 920nmで25fsのパルス時間に対して0.75J/cm2超の高フェムト秒レーザー損傷閾値
- ほぼゼロの群遅延分散で99.5%超の反射率
- 2024年度 Laser Focus World (LFW) イノベーターズアワード プラチナ賞受賞
低GDD 誘電体膜超短パルス用レーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
- 設計波長域で最小±20fs2までのGDD
- 99.9%超の反射率
- チタンサファイアやイッテルビウム (Yb) ドープの超短パルスレーザーに最適
高性能 低GDD 超短パルス用ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
- 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
- イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
- 設計波長域で 0±20fs2までの低GDD
デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
- 超短パルスビームステアリング用に高反射率 & 低群遅延分散 (GDD)
- イオンビームスパッタリング (IBS) コーティングにより散乱と吸収を最小化
- チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方でほぼゼロの群遅延分散
超短パルス用反射強化銀コート付きレーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
- 600 - 1000nm or 800 – 1150nm で99%を超える反射率
- 最小で 0±20fs2 までの低群遅延分散
- チタンサファイヤやYbドープレーザーに最適
- 標準的インチサイズをラインナップ
- TECHSPEC® 超短パルス用反射強化銀コート付き凹面レーザーミラーもラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV アト秒多層膜ミラー
- 330 アト秒パルス @ 65eV (19nm) 用にデザイン
- ピーク反射率38%の多層膜コーティング
- ≤1Å (オングストローム) の表面粗さのスーパーポリッシュ基板
- 13.5nmでデザインされた EUV 平面ミラー と EUV 球面ミラー もラインナップ
- 最低発注数量やコーティングのロットチャージなし
- 2022年度 Laser Focus World (LFW) イノベーターズアワード プラチナ賞受賞
UltraFast Innovations (UFI) 高分散超短パルス用ミラー
- パルス圧縮と分散補償用の超短パルス用チャープコーティング
- 最大99.9%超までの高反射率に精密制御された負の群遅延分散 (GDD)
- チタンサファイア、Ybドープ、ツリウム (Tm)、ホルミウム (Ho) のウルトラファストレーザーシステム用をラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 分散制御超短パルス用ミラー
- 分散制御、パルス圧縮、および分散補償用にデザイン
- 要求の厳しいレーザーアプリケーション用の高反射率コーティング
- 超短パルスレーザーシステム内への実装用に最適化
高エネルギー ピコ秒 & フェムト秒 超短パルスミラー
- 設計波長で高いレーザー損傷閾値
- s偏光やp偏光に対して高反射率
- 高エネルギーのウルトラファストレーザーアプリケーションに最適
- TECHSPEC® 低GDD 超短パルスレーザーミラーもラインナップ
超短パルス用反射強化銀コート付き非軸放物面ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
- チタンサファイアやYbドープレーザー用の超短パルス用反射強化銀コーティング
- 低群遅延分散
- <50Å RMS の表面粗さで散乱を最小化
超短パルス用反射強化銀コート付き凹面レーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
- チタンサファイヤやYbドープのレーザーパルス集光用に最適
- 600 - 1000nmで99%を超える反射率
- 0±20fs2の低群遅延分散 (GDD)
- 25 - 500mm までの焦点距離
- TECHSPEC® 超短パルス用反射強化銀コート付きレーザーミラーもラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 超広帯域 相補型チャープミラーペア
- チャープ-パルス増幅システムや超広帯域レーザー発振器に最適
- 分散補償をサポートする超広帯域デザイン
- -60fs2までの低い負GDDと高反射率 (>99%) @ 600 – 950nm or 650 - 1350nm

もしくは 現地オフィス一覧をご覧ください
クイック見積りツール
商品コードを入力して開始しましょう
Copyright 2023, エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
[東京オフィス] 〒113-0021 東京都文京区本駒込2-29-24 パシフィックスクエア千石 4F
[秋田工場] 〒012-0801 秋田県湯沢市岩崎字壇ノ上3番地
The FUTURE Depends On Optics®