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超短パルスレーザーミラー

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Yb-Doped Dichroic Mirrors Ybドープ ダイクロイックミラー New
  • 1030nmで高反射率 & 940nmで高透過率
  • <±100fs2 の低群遅延分散 (GDD)
  • イッテルビウム (Yb) レーザーに最適なダイクロイックミラー
PeakPower 高LDT 低GDD 超短パルス用ミラー PeakPower 高LDT 低GDD 超短パルス用ミラー
TECHSPEC® components are designed, specified, or manufactured by Edmund Optics. TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
New
  • 920nmで25fsのパルス時間に対して0.75J/cm2超の高フェムト秒レーザー損傷閾値
  • ほぼゼロの群遅延分散で99.5%超の反射率
  • 先進的フェムト秒レーザーアプリケーションに最適
低GDD 誘電体膜超短パルス用レーザーミラー 低GDD 誘電体膜超短パルス用レーザーミラー
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New
  • 設計波長域で最小±20fs2までのGDD
  • 99.9%超の反射率
  • チタンサファイアやイッテルビウム (Yb) ドープの超短パルスレーザーに最適
高性能 低GDD 超短パルス用ミラー 高性能 低GDD 超短パルス用ミラー
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  • 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
  • イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
  • 設計波長域で 0±20fs2までの低GDD
デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー
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  • 超短パルスビームステアリング用に高反射率 & 低群遅延分散 (GDD)
  • イオンビームスパッタリング (IBS) コーティングにより散乱と吸収を最小化
  • チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方でほぼゼロの群遅延分散
超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー 超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー
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UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV アト秒多層膜ミラー
  • 330 アト秒パルス @ 65eV (19nm) 用にデザイン
  • ピーク反射率38%の多層膜コーティング
  • ≤1Å (オングストローム) の表面粗さのスーパーポリッシュ基板
  • 13.5nmでデザインされた EUV 平面ミラー と EUV 球面ミラー もラインナップ
  • 在庫品でラインナップ
  • 最低発注数量やコーティングのロットチャージなし
1030nm 高分散広帯域超短パルス用ミラー 1030nm 高分散広帯域超短パルス用ミラー
  • 5°入射で -200fs2 の群遅延分散 (GDD)
  • 950 - 1120nm 間で 99.8%超の反射率 (p偏光)
  • Ybドープファイバーレーザーのパルス圧縮用にデザイン
  • 広帯域ウルトラファスト用チャープコーティング
高エネルギー ピコ秒 ＆ フェムト秒 超短パルスミラー 高エネルギー ピコ秒 ＆ フェムト秒 超短パルスミラー New
1030nm 高分散超短パルスミラー 1030nm 高分散超短パルスミラー
  • 7°入射で -1000fs2 までの高次群遅延分散 (GDD)
  • 60nmの帯域幅で99.8％超の最小反射率 (p偏光)
  • Ybドープファイバーレーザーの分散補償用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
800nm 高分散超短パルス用ミラー 800nm 高分散超短パルス用ミラー
  • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
  • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
  • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
超短パルス用反射強化銀コート付き非軸放物面ミラー 超短パルス用反射強化銀コート付き非軸放物面ミラー
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  • チタンサファイアやYbドープレーザー用の超短パルス用反射強化銀コーティング
  • 低群遅延分散
  • <50Å RMS の表面粗さで散乱を最小化
TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors 超短パルスレーザー用凹面反射強化銀ミラー
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2μm 高分散広帯域超短パルスミラー 2μm 高分散広帯域超短パルスミラー
  • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
  • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
  • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
  • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラー
  • -145fs2の負のGDD
  • 255 - 277nm間で5°の入射角
  • UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
  • 独自のUV負分散超短パルス用コーティング
UltraFast Innovations (UFI) Third Order Dispersion (TOD) Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 3次分散 (TOD) 超短パルス用ミラー
  • 7°入射で-2500fs3 までの高度3次負分散 (TOD)
  • GDDの追加を招くことなくTODを相殺するのに最適
  • 0fs2の低群遅延分散 (GDD)
  • II-VI LightSmyth™ 透過型回折格子もラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラー
  • 5°の入射角度で500 fs2の正のGDD
  • >99.9%の最小反射率 (p偏光)
  • 2800 – 3600nmに対応する中赤外用広帯域コーティングデザイン
  • 中赤外モードロックレーザーに最適
UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 熱レンズ効果低減 高分散超短パルス用ミラー
  • 熱レンズ効果を低減した超短パルス用高分散コーティング
  • 5°入射で-1000fs2までの高い負GDD
  • 50nmのバンド幅にわたり 99.5%超の最小反射率 (p偏光)
  • ハイパワー超短レーザーパルスの生成に最適
UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 正分散 超短パルス用ミラー
UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors UltraFast Innovations (UFI) ハイパワー用低損失ミラー
  • 1030nm & 1064nmで >99.99% の反射率
  • 50 J/cm2 @ 1064nm, 100Hz, 8ns のレーザー損傷閾値
  • ナノ秒, ピコ秒, およびフェムト秒レーザーパルス向けのユニバーサルデザイン
  • 特注オプションで200mm径まで対応可能
UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー
  • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
  • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
  • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
UltraFast Innovations (UFI) Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs UltraFast Innovations (UFI) 超広帯域 相補型チャープミラーペア
  • チャープ-パルス増幅システムや超広帯域レーザー発振器に最適
  • 分散補償をサポートする超広帯域デザイン
  • -60fs2までの低い負GDDと高反射率 (>99％) @ 600 – 950nm or 650 - 1350nm

超短パルスレーザーミラーに関連した全ての資料を見る  

レーザーオプティクス

超短パルスレーザーミラーは、高いレーザー誘起損傷閾値が得られるようにデザインされ、超短パルスレーザー入射時に99%を超える反射率が得られます。本ミラーは、特定波長域に対して群遅延分散 (GDD) や群速度分散 (GVD) を最小化することで、パルス幅の時間的広がりや圧縮効果に対抗します。GDDやGVDの最小化は、高い反射率と低GDDが同時に行われるよう、コーティング積層を慎重に選定することによって達成されます。超短パルスレーザーミラーは、材料加工や分光解析、バイオメディカル産業を始め、様々なアプリケーションで用いられます。エドモンド・オプティクスは、あなたの特定アプリケーションに対応するため、波長や入射角度別に様々なオプションをご用意しています。

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