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    ウルトラファストレーザーミラー

    Laser Optics

     ウルトラファストレーザーミラーは、高いレーザー誘起損傷閾値が得られるようにデザインされ、超短パルスレーザー入射時に99%を超える反射率が得られます。本ミラーは、特定波長域に対して群遅延分散 (GDD) や群速度分散 (GVD) を最小化することで、パルス幅の時間的広がりや圧縮効果に対抗します。GDDやGVDの最小化は、高い反射率と低GDDが同時に行われるよう、コーティング積層を慎重に選定することによって達成されます。ウルトラファストレーザーミラーは、材料加工や分光解析、バイオメディカル産業を始め、様々なアプリケーションで用いられます。エドモンド・オプティクスは、あなたの特定アプリケーションに対応するため、波長や入射角度別に様々なオプションをご用意しています。

    2μm 高分散広帯域超短パルスミラー NEW
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    2μm 高分散広帯域超短パルスミラー
    • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
    • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
    • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
    • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング
    低GDD 超短パルスレーザーミラー
    TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
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    低GDD 超短パルスレーザーミラー
    • 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
    • イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
    • 設計波長域で 0±20fs2 のGDD (群遅延分散)
    800nm 高分散超短パルスミラー NEW
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    800nm 高分散超短パルスミラー
    • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
    • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
    • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
    • ウルトラファスト用チャープコーティング
    1030nm 高分散広帯域超短パルスミラー NEW
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    1030nm 高分散広帯域超短パルスミラー
    • 5°入射で -200fs2 の群遅延分散 (GDD)
    • 950 - 1120nm 間で 99.8%超の反射率 (p偏光)
    • Ybドープファイバーレーザーのパルス圧縮用にデザイン
    • 広帯域ウルトラファスト用チャープコーティング
    1030nm 高分散超短パルスミラー NEW
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    1030nm 高分散超短パルスミラー
    • 7°入射で -1000fs2 までの高次群遅延分散 (GDD)
    • 60nmの帯域幅で99.8%超の最小反射率 (p偏光)
    • Ybドープファイバーレーザーの分散補償用に最適
    • ウルトラファスト用チャープコーティング
    45°超短パルス チャープミラー NEW
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    45°超短パルス チャープミラー
    • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
    • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
    • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
    超短パルス広帯域レーザーミラー
    超短パルス広帯域レーザーミラー
    超短パルスレーザーミラー
    超短パルスレーザーミラー
    • 99%を超える反射率
    • 266nm - 1550nmのオプションをラインナップ
    • 低群遅延分散 (GDD)

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