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    コーティング
    設計波長 DWL (nm)
    基板

    レーザーラインミラー

    レーザー用ミラーは、ビームステアリングやビームフォールディングのようなレーザーアプリケーションにおいて、レーザービームを反射したり、方向付けするのに用いられます。レーザー用ミラーは、様々な基板やコーティング、或いはそれら2つの組み合わせにより、特定の波長や波長域で高度な反射率を持つようデザインされています。また、スペースが制限された所でのレーザーアプリケーションにも最適です。レーザービームは、特定エリア内に適応できるよう、ビーム方向を複数回正確に方向付けすることができます。

    エドモンド・オプティクスは、多くのビームステアリングやビームマニピュレーションニーズに適した広範なレーザー用ミラーをご用意しています。単波長用のレーザーラインミラーは、波長のとても狭い帯域を超高反射率で反射するようにデザインされています。高耐力ミラーは、高レーザー耐力を有する耐久性の特に高いミラーです。広範な製品群のレーザー用ミラーが、市場に広く流通するレーザー波長向けにラインナップされています。

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    IBS レーザーミラー
    • 低損失かつ高反射率のIBSミラーコーティング
    • 15J/cm2 @ 1064nmまでの保証された高レーザー損傷閾値
    • 1ppmレベルの散乱性能を持つスーパーポリッシュ基板もラインナップ
    • 内製でカスタムの寸法やコーティングスペックにも対応可能
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    45°超短パルス チャープミラー
    • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
    • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
    • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
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    Nd:YAG レーザーミラー
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    Yb:YAG レーザーミラー
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    レーザーミラー
    • 保証済みのレーザー損傷閾値
    • UVグレード合成石英基板の採用による優れた熱的及び経時的安定性
    • 設計波長で99%超の反射率
    • 低吸収なイオンビームスパッタリング (IBS) のコーティングオプション
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    低GDD 超短パルスレーザーミラー
    • 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
    • イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
    • 設計波長域で 0±10fs2 のGDD (群遅延分散)
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    800nm 高分散超短パルスミラー
    • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
    • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
    • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
    • ウルトラファスト用チャープコーティング
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    1030nm 高分散広帯域超短パルスミラー
    • 5°入射で -200fs2 の群遅延分散 (GDD)
    • 950 - 1120nm 間で 99.8%超の反射率 (p偏光)
    • Ybドープファイバーレーザーのパルス圧縮用にデザイン
    • 広帯域ウルトラファスト用チャープコーティング
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    1030nm 高分散超短パルスミラー
    • 7°入射で -1000fs2 までの高次群遅延分散 (GDD)
    • 60nmの帯域幅で99.8%超の最小反射率 (p偏光)
    • Ybドープファイバーレーザーの分散補償用に最適
    • ウルトラファスト用チャープコーティング
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    ローコストレーザーミラー
    • 設計波長で99.9%超の反射率
    • λ/10の面精度
    • 優れたコストパフォーマンス
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    ファイバーレーザー用ミラー
    • 共通するファイバーレーザー用にデザイン
    • 1030 ~ 1090nmにて99.2%以上の反射率
    • 高い損傷閾値
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    アルゴンレーザーミラー
    • 低損失な誘電体多層膜コーティング
    • 設計波長帯においてR>98%
    • アルゴンレーザーの全共通波長に最適化
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    エキシマレーザーミラー
    • 1.5J/cm2までの高い損傷閾値
    • 低損失な誘電体膜コーティング
    • 193mmおよび248mmレーザーとの使用向けにデザイン
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    ガウシアン反射率ミラー
    • レーザーキャビティ内で基本モードの反射率を調整
    • 中央4mmの開口に対してガウシアンな反射特性
    • 15%から35%までの中心反射率
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    レーザーライン λ/20 高精度直角プリズムミラー (斜面コートタイプ)
    • 設計波長で>99.5%の反射率
    • ±15”の角度公差
    • 熱的安定性の高い基板を採用
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    高性能レーザーダイオードミラー
    • 設計波長においてR>99.8%を実現
    • 特定波長域に対して卓越した広帯域特性
    • 共通のダイオードレーザー用にデザイン

    超短パルスレーザーミラー
    • 99%を超える反射率
    • >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800nm の典型損傷閾値
    • 低群遅延分散 (GDD)
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    Nd:YAG レーザーミラーキット
    • Nd:YAGの高調波用やデュアルバンド用のミラー6枚で構成
    • 設計波長で99%を超える絶対反射率
    • 高い損傷閾値
    • Nd:YAG レーザーミラーも個別にラインナップ
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    2µm用レーザーミラー
    • >10 J/cm2 @ 2000nmの保証済みのレーザー損傷閾値
    • ホルミウムとツリウムレーザー光源用にデザイン
    • λ/7の平面度
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    2μm 高分散広帯域超短パルスミラー
    • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
    • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
    • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
    • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング
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    レーザーライン凹面ミラー
    • レーザー光の一点集光用に最適
    • 中心波長で99.8%を超える反射率
    • 熱的安定性に優れた合成石英基板を採用

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