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レーザーラインミラー

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レーザー用ステムミラー レーザー用ステムミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
Nd:YAG レーザー用交換部品 Nd:YAG レーザー用交換部品
  • アウトプットカプラー、レーザーラインミラー および Nd:YAGロッド
  • R = 80％ or 90％ @ 1064nm のアウトプットカプラー
  • 0.6％ NdドープのNd:YAGロッド
  • 補完する Nd:YAGレーザー用オプティクス の豊富な製品群をラインナップ
Low Cost Nd:YAG Multi-Line Mirrors ローコスト Nd:YAG マルチラインミラー
UltraFast Innovations (UFI) Third Order Dispersion (TOD) Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 3次分散 (TOD) 超短パルス用ミラー
  • 7°入射で-2500fs3 までの高度3次負分散 (TOD)
  • GDDの追加を招くことなくTODを相殺するのに最適
  • 0fs2の低群遅延分散 (GDD)
  • II-VI LightSmyth™ 透過型回折格子もラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラー
  • 5°の入射角度で500 fs2の正のGDD
  • >99.9%の最小反射率 (p偏光)
  • 2800 – 3600nmに対応する中赤外用広帯域コーティングデザイン
  • 中赤外モードロックレーザーに最適
UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 熱レンズ効果低減 高分散超短パルス用ミラー
  • 熱レンズ効果を低減した超短パルス用高分散コーティング
  • 5°入射で-1000fs2までの高い負GDD
  • 50nmのバンド幅にわたり 99.5%超の最小反射率 (p偏光)
  • ハイパワー超短レーザーパルスの生成に最適
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラー
  • -145fs2の負のGDD
  • 255 - 277nm間で5°の入射角
  • UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
  • 独自のUV負分散超短パルス用コーティング
UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 正分散 超短パルス用ミラー
UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors UltraFast Innovations (UFI) ハイパワー用低損失ミラー
  • 1030nm & 1064nmで >99.99% の反射率
  • 50 J/cm2 @ 1064nm, 100Hz, 8ns のレーザー損傷閾値
  • ナノ秒, ピコ秒, およびフェムト秒レーザーパルス向けのユニバーサルデザイン
  • 特注オプションで200mm径まで対応可能
Nd:YAG レーザー出力カプラー Nd:YAG レーザー出力カプラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
New
  • 532nmと1064nmのNd:YAGレーザー用にデザイン
  • Nd:YAGの設計波長で80%の反射率
  • UVグレード合成石英基板
低GDD 超短パルス用レーザーミラー 低GDD 超短パルス用レーザーミラー New 在庫処分品
高エネルギー ピコ秒 ＆ フェムト秒 超短パルスミラー 高エネルギー ピコ秒 ＆ フェムト秒 超短パルスミラー New
UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー
  • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
  • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
  • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
IBS レーザーミラー IBS レーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
New
  • 低損失かつ高反射率のIBSミラーコーティング
  • 15J/cm2 @ 1064nmまでの設計波長で保証された高レーザー損傷閾値
  • 1ppmレベルの散乱性能を持つスーパーポリッシュ基板にも対応
  • その他のサイズはお問い合わせください
TECHSPEC® Yb:YAG Laser Line Mirrors Yb:YAG レーザーミラー
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Nd:YAG レーザーミラー Nd:YAG レーザーミラー
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高性能 低GDD 超短パルス用ミラー 高性能 低GDD 超短パルス用ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
  • 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
  • イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
  • 設計波長域で 0±20fs2までの低GDD
デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
New
  • 超短パルスビームステアリング用に高反射率 & 低群遅延分散 (GDD)
  • イオンビームスパッタリング (IBS) コーティングにより散乱と吸収を最小化
  • チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方でほぼゼロの群遅延分散
800nm 高分散超短パルス用ミラー 800nm 高分散超短パルス用ミラー
  • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
  • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
  • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
1030nm 高分散広帯域超短パルス用ミラー 1030nm 高分散広帯域超短パルス用ミラー
  • 5°入射で -200fs2 の群遅延分散 (GDD)
  • 950 - 1120nm 間で 99.8%超の反射率 (p偏光)
  • Ybドープファイバーレーザーのパルス圧縮用にデザイン
  • 広帯域ウルトラファスト用チャープコーティング
1030nm 高分散超短パルスミラー 1030nm 高分散超短パルスミラー
  • 7°入射で -1000fs2 までの高次群遅延分散 (GDD)
  • 60nmの帯域幅で99.8％超の最小反射率 (p偏光)
  • Ybドープファイバーレーザーの分散補償用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
ローコストレーザーミラー ローコストレーザーミラー New
  • 設計波長で 99％超の反射率
  • λ /10 の平面度
  • Nd:YAG, Yb:YAG, ダイオードレーザー用にデザイン
  • 優れたコストパフォーマンス
ファイバーレーザー用ミラー ファイバーレーザー用ミラー
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  • 共通するファイバーレーザー用にデザイン
  • 1030 ~ 1090nmにて99.2%以上の反射率
  • 高い損傷閾値
エキシマレーザーミラー エキシマレーザーミラー
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  • 1.5J/cm2までの高い損傷閾値
  • 低損失な誘電体膜コーティング
  • 193nm と 248nm レーザー用にデザイン
レーザーライン λ/20 高精度直角プリズムミラー (斜面コートタイプ) レーザーライン λ/20 高精度直角プリズムミラー (斜面コートタイプ)
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New
  • 設計波長で>99.5%の反射率
  • ±15”の角度公差
  • 熱的安定性の高い基板を採用
高性能レーザーダイオードミラー 高性能レーザーダイオードミラー
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  • 設計波長においてR>99.8％を実現
  • 特定波長域に対して卓越した広帯域特性
  • 共通のダイオードレーザー用にデザイン
2µm用レーザーミラー 2µm用レーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
  • >10 J/cm2 @ 2µm, 10ns, 10Hz のレーザー損傷閾値
  • ホルミウムとツリウムレーザー光源用にデザイン
  • λ/7の平面度
2μm 高分散広帯域超短パルスミラー 2μm 高分散広帯域超短パルスミラー
  • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
  • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
  • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
  • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング
レーザーライン凹面ミラー レーザーライン凹面ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
  • レーザー光の一点集光用に最適
  • 中心波長で99.8%を超える反射率
  • 熱的安定性に優れた合成石英基板を採用
デュアルバンド レーザーミラー デュアルバンド レーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
  • 設計波長で99％超の反射率
  • 繊細なレーザーアプリケーションに対応する10-5の表面品質
  • 532/1064nm or 635-670/1064nm の波長バンド
  • TECHSPEC® Nd:YAG レーザーミラーもラインナップ
超高反射率 (UHR) 広帯域誘電体ミラー 超高反射率 (UHR) 広帯域誘電体ミラー New 在庫処分品
  • 可視もしくはNIRの広い波長域で99.8%超の反射率
  • 高感度レーザーアプリケーションにおいて散乱を低減する10-5の表面品質
  • λ/10の平面度
低GDD 誘電体膜超短パルス用レーザーミラー 低GDD 誘電体膜超短パルス用レーザーミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
New
  • 設計波長域で最小±20fs2までのGDD
  • 99.9%超の反射率
  • チタンサファイアやイッテルビウム (Yb) ドープの超短パルスレーザーに最適
超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー 超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー
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 Application Note
Highly Reflective Coatings
Highly Reflective Coatings

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レーザー用ミラーは、ビームステアリングやビームフォールディングのようなレーザーアプリケーションにおいて、レーザービームを反射したり、方向付けするのに用いられます。レーザー用ミラーは、様々な基板やコーティング、或いはそれら2つの組み合わせにより、特定の波長や波長域で高度な反射率を持つようデザインされています。また、スペースが制限された所でのレーザーアプリケーションにも最適です。レーザービームは、特定エリア内に適応できるよう、ビーム方向を複数回正確に方向付けすることができます。

エドモンド・オプティクスは、多くのビームステアリングやビームマニピュレーションニーズに適した広範なレーザー用ミラーをご用意しています。単波長用のレーザーラインミラーは、波長のとても狭い帯域を超高反射率で反射するようにデザインされています。高耐力ミラーは、高レーザー耐力を有する耐久性の特に高いミラーです。広範な製品群のレーザー用ミラーが、市場に広く流通するレーザー波長向けにラインナップされています。

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