チャープミラー＆高分散ミラー
チャープミラーは、超短パルスレーザーのパルスが光学媒体を伝播する際に発生するパルス拡がりを補償するチャープレーザーミラーコーティングを蒸着した分散補償ミラーです。高分散ミラー (HDM) は、高分散の多層膜チャープコーティングを蒸着しており、パルス圧縮や共振器内の分散補償に用いられます。チャープミラーや高分散ミラーは、対になった2枚のミラー間の反射回数を高めるために低入射角で、あるいは一般的なビームステアリング用には大きな入射角でデザインされています。この超短パルスミラーは、プリズムやグレーティングコンプレッサー代わりに用いることができ、よりコンパクトでアライメント不要のシステムを構築できる利点があります。これによって、GDDと三次および高次分散を補償し、より短いパルスの出力が可能になります。
エドモンド・オプティクスは、チタンサファイア、エルビウムドープファイバー、ツリウム (Tm)、ホルミウム (Ho) など、フェムト秒レーザー光源に使用できるチャープミラーや高分散ミラーのラインナップを拡充しています。このミラーは、超短パルス圧縮用の低入射角を持つものか、ビーム伝播中の超短パルス圧縮の45°など、より大きな入射角のものをラインナップします。特注仕様のチャープミラーや高分散ミラーが必要なアプリケーションの場合は、当社にご連絡ください。
UltraFast Innovations (UFI) 3次分散 (TOD) 超短パルス用ミラー
- 7°入射で-2500fs3 までの高度3次負分散 (TOD)
- GDDの追加を招くことなくTODを相殺するのに最適
- 0fs2の低群遅延分散 (GDD)
- II-VI LightSmyth™ 透過型回折格子もラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラー
- 5°の入射角度で500 fs2の正のGDD
- >99.9%の最小反射率 (p偏光)
- 2800 – 3600nmに対応する中赤外用広帯域コーティングデザイン
- 中赤外モードロックレーザーに最適
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラー
- -145fs2の負のGDD
- 255 - 277nm間で5°の入射角
- UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
- 独自のUV負分散超短パルス用コーティング
UltraFast Innovations (UFI) 正分散 超短パルス用ミラー
- 5°入射で100fs2までの正GDD
- sとp偏光で99.5％超の高反射率
- 700 - 1100nmの広帯域性能
- 超短パルス用分散補償プリズムもラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 超広帯域 相補型チャープミラーペア
- チャープ-パルス増幅システムや超広帯域レーザー発振器に最適
- 分散補償をサポートする超広帯域デザイン
- -60fs2までの低い負GDDと高反射率 (>99％) @ 600 – 950nm or 650 - 1350nm
UltraFast Innovations (UFI) 高分散超短パルス用ミラー
- パルス圧縮と分散補償用の超短パルス用チャープコーティング
- 最大99.9%超までの高反射率に精密制御された負の群遅延分散 (GDD)
- チタンサファイア、Ybドープ、ツリウム (Tm)、ホルミウム (Ho) のウルトラファストレーザーシステム用をラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー
- 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
- 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
- チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
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