- 吸収と散乱を最小限に抑えるIBS成膜
- Nd:YAGレーザーラインで0.1%未満の反射率
- 設計波長でのレーザー損傷閾値を認証
- 低損失かつ高反射率のIBSミラーコーティング
- 15J/cm2 @ 1064nmまでの設計波長で保証された高レーザー損傷閾値
- 1ppmレベルの散乱性能を持つスーパーポリッシュ基板にも対応
- その他のサイズはお問い合わせください
- 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
- イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
- 設計波長域で 0±20fs2までの低GDD
- 超短パルスビームステアリング用に高反射率 & 低群遅延分散 (GDD)
- イオンビームスパッタリング (IBS) コーティングにより散乱と吸収を最小化
- チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方でほぼゼロの群遅延分散
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