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USAF 1951テストターゲット

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  • ガラス上にネガパターンかポジパターン
  • 2種類の基板サイズ
  • 保管ケースと空間周波数チャート付属
  • 645 本/mm までに対応した高解像度パターンもラインナップ

ガラス基板上に1951 USAFテストパターンをクロム蒸着したもので、ポジパターンとネガパターンの2種類が選べます。ポジパターンは透明基板上に不透明 (クロム)テストパターンを蒸着したもので、撮像光学系やテスト装置の品質管理用に推奨します。一方のネガパターンはポジパターンを反転したもので (不透明基板上に透明テストパターン)、透過照明/バックライト照明を必要とする顕微鏡や高倍率カメラレンズの評価用に最適です。MIL-S-150A規格に準拠。

エドモンド・オプティクスのUSAFテストターゲットは、サイズ別に2種類が選べます。大型サイズ (76.2mm角) の方は、小型サイズ (50.8mm角) のものに比べて、より低い空間周波数パターンが施されています (グループ-2/ライン1)。USAFパターン自体の全体サイズは、小型サイズが15 (H) x 14 (V) mm、一方の大型サイズが61 (H) x 57 (V)mmです。どの製品もUSAFテストパターンのグループ数-ライン数対応表と樹脂製収納ケース付きです。

共通データ

Number of Line Pairs / mm in USAF Resolving Power Test Target 1951
Element
Group Number
For High Res only
-2 -1 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9
1 0.250 0.500 1.00 2.00 4.00 8.00 16.00 32.0 64.0 128.0 256.0 512.0
2 0.280 0.561 1.12 2.24 4.49 8.98 17.95 36.0 71.8 144.0 287.0 575.0
3 0.315 0.630 1.26 2.52 5.04 10.10 20.16 40.3 80.6 161.0 323.0 645.0
4 0.353 0.707 1.41 2.83 5.66 11.30 22.62 45.3 90.5 181.0 362.0
5 0.397 0.793 1.59 3.17 6.35 12.70 25.39 50.8 102.0 203.0 406.0
6 0.445 0.891 1.78 3.56 7.13 14.30 28.50 57.0 114.0 228.0 456.0
 
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