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極端紫外 (EUV) 用球面ミラー 25.4 x 250

TECHSPEC® Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors

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設計波長 DWL (nm):
13.5
基板: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
基板面粗さ (Å):
<3 RMS
直径 (mm):
25.40 +0.00/-0.13
焦点距離 EFL (mm):
250.00
曲率半径 (mm):
500.00
コーティング:
Mo/Si Multilayer
Top Layer: Silicon
コーティングスペック:
Rabs >60% @ 13.5nm
コーティングタイプ:
Metal/Semiconductor
曲率半径 R1 (mm):
500.00
全厚 (mm):
6.35 ±0.25
タイプ:
Spherical Mirror
半値全幅 FWHM (nm):
0.50

環境規制対応状況

RoHS 2011/65:
適合証明書:

製品群全体の紹介

  • スーパーポリッシュ基板上にMo/Si 多層コーティング
  • 13.5nmで最大の反射率を達成
  • EUVビームの集光アプリケーション用にデザイン
  • 高次高調波発生に向けた狭帯域パスバンド特性

極端紫外 (EUV) 用球面ミラーは、Mo/Si 多層コーティングの採用により、13.5nmで60%以上の反射率を実現します。非偏光のEUVレーザー光源の集光用に向け、5°の入射角度でデザインされています。3Å RMS 未満の表面粗さにより、散乱を最小化します。これは、長波長よりも散乱が多くなるEUV波長では不可欠になります。極端紫外 (EUV) 用球面ミラーは、0.5nmほどの非常に狭いパスバンド特性により、13.5nmの倍波のみに関心がある高次高調波発生 (HHG) 用途での反射を確実にします。EUV用球面ミラーの代表的アプリケーションに、コヒーレント回折イメージング (CDI)、EUVイメージング、EUVナノマシニングがあります。

補足: ミラーの各製造ロットのサンプルテストデータ付きです。

 
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