製品がカートに追加されました

高解像力顕微鏡用USAF ターゲット

High Resolution Microscopy Resolution Target, #37-539

×
商品コード #37-539 在庫あり
×
- +
¥212,900
数量 1-4
¥212,900
数量 5+
¥202,300
製品情報ダウンロード
寸法 (mm):
10 x 10 x 1
基板: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica w/Chrome deposit
光学濃度 OD (平均):
OD>7 @ 400nm, 6 @ 550nm, 4.5 @ 750nm, 3.6 @ 1000nm
構造:
Stainless Steel, 75 x 25 x 1.5mm, microscope slide format
パターン:
Pinholes Diameter: 4μm, 2μm, 1μm, 0.5μm, 0.25μm
Line patterns: 59 groups, 7.5 - 3300 lp/mm
Line Widths: 66.7μm - 0.152μm
波長領域:
200 - 2000nm
パターン公差:
100nm/cm = 10-5

環境規制対応状況

REACH SVHC (191物質):
RoHS 2015/863:
適合証明書:

製品群全体の紹介

  • 最小パターン寸法 - 100nm と 3300本/mm
  • 高精度な電子ビームリソグラフィーを用いて製造
  • ネガパターンデザイン

高解像力顕微鏡用スライドターゲットは、高精度な電子ビームリソグラフィーを用いて製造されます。透過率が広帯域 (DUV-VIS-NIR) な10 x 10mmサイズの合成石英基板に高光学濃度のクロム層を施し、それをエッチングすることでパターンが形成されます。クロム層を除去することで、最小100nmサイズのパターンが作られます。高解像力顕微鏡用スライドターゲットは、卓越した寸法的安定性があり、金属製の顕微鏡用スライドホルダー内に固定されます。ネガティブパターンの本ターゲットは、パターン自体が透明なのに対し、パターン以外の背景部はクロム層によって光が遮断されます。

高解像力顕微鏡用USAFターゲット

高解像力顕微鏡用USAFターゲットは、7.5~3300本/mmまでの水平と垂直方向の59ラインパターンにより、透過光での物体の解像限界を容易に決定することができます。本ターゲットには直径 4.0~0.25μmの5つのピンホールパターンもあるため、マイクロイメージングオプティクスの詳細な性能評価が可能です。

高解像力顕微鏡用スターターゲット

高解像力顕微鏡用スターターゲットは、5つのジーメンススターで構成され、ターゲット中央のテーパー状パターンの先端は150nmの最小幅で正確に作られています。このターゲットは、高NAを持つ顕微鏡用対物レンズの解像力評価に最適です。

高解像力顕微鏡用チェッカーボード

高解像力顕微鏡用チェッカーボードは、9.0 x 9.0mm~50 x 50µmまでの正方形パターンで構成されます。チェッカーボードは、画像の歪みやそりのテスト、及び直線のシャープなエッジを利用した画質評価に最適です。

 
販売や技術サポート
 
もしくは 現地オフィス一覧をご覧ください
簡単便利な
クイック見積りツール
商品コードを入力して開始しましょう