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精密光学部品の製造 光学コーティング

Aspheres
 
光学コーティング

  248nmから>40µmまでに対応する自社内量産用コーティング

  定評あるパートナー企業と連携して13.5nmから4.1nmまでの選択的なUV領域に対応

  反射防止, 高反射, フィルター, 偏光, ビームスプリッター, および金属膜の設計

  高いレーザー損傷閾値 (LDT) と超短パルスレーザー用コーティング

  高硬度でキズや腐食に耐性をもつダイヤモンドライク・カーボン・コーティング

 
 
 

対応力

エドモンド・オプティクスは、自社内のコーティング施設で、数十種類の標準反射防止 (AR) とミラー用金属膜コーティング、さらには広範な特注光学コーティングを生産します。当社の標準コーティングオプションがお客様のアプリケーションに機能しない場合は、お客様に従事して特注コーティングを設計いたします。

  • フィルター – 蛍光用, ダイクロイック, 狭帯域バンドパス, マルチバンドパス, ノッチ, エッジ (ショートパスとロングパス)
  • 反射防止 – 単層, 高効率多層 (広帯域), レーザー用V, レーザー用ダブルV
  • ビームスプリッター – 偏光, 無偏光
  • 高レーザー損傷閾値 – 反射防止, 高反射
  • レーザーパルス圧縮用の群遅延分散 (GDD) 制御をもつ超短パルス用コーティング
  • ITO導電膜
  • ミラー – 保護膜付きおよび反射強化のアルミ, 銀, 金, "ホット" & "コールド"用誘電体膜, 誘電体多層膜
  • 特殊デザイン – UV, 可視, 赤外 (NIR, MWIR, SWIR, LWIR) 用の図面に沿った製作, 設計 & 開発

薄膜コーティング (反射防止, 高反射, ビームスプリッター, フィルター, レーザー)

  電子ビーム (Eビーム) イオンアシスト付きEビーム 先進プラズマ源 (APS) バイアス電圧による
ラジカルアシストスパッタリング (RAS-Bias)
イオンビームスパッタリング (IBS)   ミラー用金属膜 ダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC)
お客様のシステムが必要とする反射、透過、あるいは特定の遮断を実現するため、特注の薄膜コーティング設計を用意することができます。 波長範囲:   157nm - 12µm 190nm - >20µm 250nm - >20µm 320nm - 3500nm 266nm - 3500nm 250nm - 20µm 2µm - 15µm
  真空紫外:              
  紫外:              
  可視:              
  近赤外:              
  赤外:              
基板材料: すべてのガラスとレーザー結晶 すべてのガラスとレーザー結晶 すべてのガラス ガラスウェハー すべてのガラス すべてのガラスと金属 IR 材料
最大寸法: 400mm 400mm 150mm 150mm 75mm 150mm 400mm
コーティング材料: フッ化物 フッ化物, 酸化物 フッ化物, 酸化物 酸化物 酸化物 Al, Ag, Au ナノコンポジット・カーボン
バッチコスト: ¥¥ ¥¥¥ ¥¥¥¥ ¥¥¥¥ ¥¥¥
チャンバーサイズ:            
単価 (バッチ最適化): ¥¥ ¥¥ ¥¥¥¥ ¥¥
可能なコーティングの複雑性: ♦♦ ♦♦♦ ♦♦♦♦ ♦♦♦♦♦
密度:

中~高 非常に高 非常に高 中~高 非常に高
散乱: ·
耐久性: 非常に良 非常に高 非常に高 非常に高 良~非常に高 非常に高
反射防止 (AR) 狭帯域での反射率スペック (R<%): 0.25% 0.25 0.25% 0.25% 0.20% 0.20% 0.05%    
広帯域での反射率スペック (R<%): 0.50% 0.50% 0.40% 0.40% 0.25%    
ミラー / 高反射 (HR) 狭帯域での反射率スペック (R>%): >99.8% >99.8% >99.8% >99.8% >99.999%    
広帯域での反射率スペック (R>%): >99% >99% >99% >99% >99.9% >99%  
ビームスプリッター Ts - Tp (広帯域、無偏光): <8% <6% <6%        
Ts - Tp (レーザーライン、無偏光): <3% <2% <2%        
R/T 分割比公差 (無偏光): +/-10% +/-5% +/-5%        
消光比 (偏光): 500:1 >1000:1 >1000:1        
光学フィルター 光学フィルターのODブロッキング値:     OD3 OD4+ OD6+    
最小バンド幅:     25nm 10nm <5nm    
転移幅 (最大OD~50%T):     CWLの5% CWLの3% CWLの1%    
レーザーコーティング*
1064nmに対するデータ例。ご要望に応じて、他の材料や波長での値にも対応可能。
LIDT (J/cm2) - 1064nmでのナノ秒: 20 - 100 20 - 100     20 - 100 2 - 5  
LIDT (J/cm2) - 1064nmでの超短パルス: 0.5 - 5 0.5 - 5     0.5 - 5 0.2 - 2  
吸収 (ppm): 10 <10     <5    

*記載されているLIDT値はすべて典型的な範囲であり、達成可能な最高性能を示すものではありません。実際の結果は、材料、設計、および試験の仕様によって変わります。LIDTは、波長とパルス時間にも比例します。特定の材料、波長、およびパルス時間に対する典型値は、ご依頼いただけます。当社のすべてのレーザーコーティングは、社内および/あるいは第三者機関によって検証されます。

標準あるいは特注コーティングがご必要ですか?

特注コーティングの設計は、今すぐお問い合わせください!

設備

エドモンド・オプティクスは、米国、日本、およびシンガポールに最先端の光学コーティング設備を備えており、次のような対応力を備えています:

  • 電子ビーム蒸着
  • イオンアシスト蒸着
  • 先進プラズマ源 (APS)
  • イオンビームスパッタリング
  • マグネトロンスパッタリング
  • 真空蒸着
  • 高精度光学モニタリング
  • 厳しい環境や耐久性に向けたハードコーティング
  • 自動化超音波洗浄

計測

エドモンド・オプティクスは、当社の標準と特注光学コーティングから最高の性能を得るため、一連の試験を行います。以下のコーティング計測機器を備えています:

Aspheric Equipment
 
Edmund Optics logo

当社がお客様に提供する3つのサービス:

在庫販売

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光学部品製造

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イメージング用部品・システムの
特注&量産メーカー