在庫処分品：レーザーオプティクス

261.4nm用にデザインされたレンズ、ミラーおよびウインドウ
高エネルギーUVフォトンに耐える高い損傷閾値
UVC Photonics モデル261 レーザーとの使用に最適

• 先進的な光学式ポジションディテクターデザイン
• 磁石可動型アクチュエーター技術を採用
• システムインテグレーションの容易なコンパクトサイズ

• 反射設計による高出力ベッセルビーム伝搬
• 超短パルスレーザーアプリケーション向けに波長分散を排除
• 複数のアキシコン角度とコーティングオプションをラインナップ
• 製造メーカーの仕様適合認定書付属

• Nd:YAGの高調波で >99.2%の反射率
• 高いレーザー誘起損傷閾値スペック
• 10-5の表面品質により繊細なレーザーアプリケーションでの散乱を低減
• TECHSPEC® レーザーミラー基板やTECHSPEC® Yb:YAG レーザーミラーもラインナップ

• 鏡筒固定されたN-BK7 レンズによりレーザーシステム内への容易な実装を実現
• 60mmから120mmまでの正の焦点距離
• 532 と 1064nmで最小反射率が得られるARコートを採用

• レーザースキャニングアプリケーションに最適
• スキャンフィールドにわたって回折限界かつ低波面誤差
• 長作動距離 & 広いスキャンエリア
• ガルバノメーター, ビームエキスパンダー, レーザー光源 もラインナップ

• >10 J/cm² @ 2µm, 10ns, 10Hz のレーザー損傷閾値
• ホルミウムとツリウムレーザー光源用にデザイン
• λ/7の平面度

• 1~3X と 2~8X の可変倍率
• 内部の光学素子が回転しないピント調整機構によりビームのふらつきを低減
• 鏡筒の長さが変化しないコンパクトなガリレオ式デザイン
• TECHSPEC® Draconis™ 広帯域レーザー用ビームエキスパンダーもラインナップ