レーザー用オプティクス

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ZERODUR®製 λ/10 広帯域誘電体膜コート付き平面ミラー ZERODUR®製 λ/10 広帯域誘電体膜コート付き平面ミラー
TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
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  • 熱膨張係数がほぼゼロのZERODUR® 基板
  • 金属膜コーティングよりも高い反射率とLDT
  • 0-45°入射用にデザインされたUV, 可視光, およびNIR用反射コーティング
  • ZERODUR®製 金属膜コート付きミラー もラインナップ
中空ルーフリトロリフレクター 中空ルーフリトロリフレクター
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  • 一軸内の光の向きを変えるのに最適
  • 分散を最小化する中空デザイン
  • 光学アッセンブリ内のルーフプリズムやポロプリズムを置き換え
Gemma™ 可変ビームエキスパンダー Gemma™ 可変ビームエキスパンダー
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金属膜コート付きステムミラー 金属膜コート付きステムミラー
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  • 取付時のミラー面の応力を低減するステムデザイン
  • 低熱膨張の丈夫な合成石英構造
  • 反射強化アルミ, 保護膜付き金, 保護膜付き銀のコーティング
  • TECHSPEC® レーザー用広帯域誘電体膜コート付きステムミラー もラインナップ
デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー
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  • 超短パルスビームステアリング用に高反射率 & 低群遅延分散 (GDD)
  • イオンビームスパッタリング (IBS) コーティングにより散乱と吸収を最小化
  • チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方でほぼゼロの群遅延分散
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV アト秒多層膜ミラー UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV アト秒多層膜ミラー
  • 330 アト秒パルス @ 65eV (19nm) 用にデザイン
  • ピーク反射率38%の多層膜コーティング
  • ≤1Å (オングストローム) の表面粗さのスーパーポリッシュ基板
  • 13.5nmでデザインされた EUV 平面ミラー EUV 球面ミラー もラインナップ
  • 在庫品でラインナップ
  • 最低発注数量やコーティングのロットチャージなし
UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 熱レンズ効果低減 高分散超短パルス用ミラー UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 熱レンズ効果低減 高分散超短パルス用ミラー
  • 熱レンズ効果を低減した超短パルス用高分散コーティング
  • 5°入射で-1000fs2までの高い負GDD
  • 50nmのバンド幅にわたり 99.5%超の最小反射率 (p偏光)
  • ハイパワー超短レーザーパルスの生成に最適
枠付き合成石英製コーナーキューブ 枠付き合成石英製コーナーキューブ
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  • 他部品との固定を容易にする¼-20のタップ穴加工
  • UV域で優れた透過率
  • 測量やアライメント用に便利
  • 枠なしバージョン もラインナップ
レーザーミラー基板 レーザーミラー基板
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  • λ/10の平面度と10-5の表面品質
  • 高品質合成石英基板
  • 様々な形状やサイズをラインナップ
  • ウインドウ基板もラインナップ
高性能 低GDD 超短パルス用ミラー 高性能 低GDD 超短パルス用ミラー
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  • 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
  • イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
  • 設計波長域で 0±20fs2までの低GDD
非線形光学結晶 非線形光学結晶 New
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  • 800nmと1030nmレーザーの周波数変換用のBBO結晶
  • 1030nmと1064nmレーザーの周波数変換用のLBO結晶
  • 10 J/cm2 @ 1064nm, 10ns, 10Hz までの高い損傷閾値
  • UVからIRまでの広い透過領域
Vega™ 広帯域レーザー用ビームエキスパンダー Vega™ 広帯域レーザー用ビームエキスパンダー
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  • 広帯域チューナブルレーザー光源用のARコート付き
  • 1.5Xから20Xまでの固定倍率をラインナップ
  • 回転式ピント調整機構で入射ビームの発散性を補正
Vega™ レーザーライン用ビームエキスパンダー Vega™ レーザーライン用ビームエキスパンダー
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  • レーザー波長用のARコート付き: 266nm, 355nm, 405nm, 532nm, 1064nm, 1940nm
  • 1.5Xから20Xまでの固定倍率をラインナップ
  • 回転式ピント調整機構で入射ビームの発散性を補正
精密紫外用ミラー 精密紫外用ミラー
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  • 120nmと190nmの設計波長
  • 特定波長域にわたり85%以上の平均反射率を実現
  • 可視域全体まで反射率を高める金属膜コーティングを採用
AdlOptica πShaper フラットトップビームシェイパー AdlOptica πShaper フラットトップビームシェイパー New
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2µm用レーザーミラー 2µm用レーザーミラー
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  • >10 J/cm2 @ 2µm, 10ns, 10Hz のレーザー損傷閾値
  • ホルミウムとツリウムレーザー光源用にデザイン
  • λ/7の平面度
広帯域可変型超短パルス用コンプレッサー 広帯域可変型超短パルス用コンプレッサー New
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  • 625-1300nmの広い波長域で3次分散を極小化する負の群遅延分散
  • 最大95%までの高効率でビームパス偏移なし
  • キャリブレーションの必要なし
  • 他の波長オプションをラインナップ
可変型超短パルス用コンプレッサー 可変型超短パルス用コンプレッサー New
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  • 最小-10,000fs2までの負の群遅延分散で3次分散を極小化
  • 最大99.7%までの高効率でビームパス偏移なし
  • キャリブレーションの必要なし
  • UV、チタンサファイア、Ybドープファイバーや中赤外 (2µm) をはじめとする波長オプション
可変型超短パルス用ストレッチャー 可変型超短パルス用ストレッチャー New
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  • 最高4000 fs2までの正の群遅延分散で3次分散を極小化
  • 最大95%までの高効率でビームパス偏移なし
  • キャリブレーションの必要なし
  • 可変型超短パルス用コンプレッサーもラインナップ
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