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新製品 レーザーオプティクス

特注品 &
大量生産に対応

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Mini Free-Space Optical Isolators ミニフリースペース 光アイソレーター New
  • <1cm³の小型フォームファクター
  • 70%以上の最小透過率 & 30dB以上の最小アイソレーション
  • 最小1.60mmまでの入射開口
Jenoptik 固定倍率ビームエキスパンダー Jenoptik 固定倍率ビームエキスパンダー New
  • ハイパワー & 超短パルスシステムに最適
  • 1.5Xから8Xまでの固定倍率
  • 回折限界性能に向けてデザイン
Jenoptik 可変倍率ビームエキスパンダー Jenoptik 可変倍率ビームエキスパンダー New
  • ハイパワー & 超短パルスシステムに最適
  • 1Xから10X までの範囲で連続した倍率
  • 回折限界性能に向けてデザイン
Impact シリーズ #29-671 G&H ポッケルスセル New
  • 1MHzまでの高性能位相変調
  • UVからNIRスペクトルまで98%超の透過率
  • >10J/cm2 の損傷閾値
  • Qスイッチング、パルスピッキング、およびレーザー出力制御に最適
Yb-Doped Dichroic Mirrors Ybドープ ダイクロイックミラー New
  • 1030nmで高反射率 & 940nmで高透過率
  • <±100fs2 の低群遅延分散 (GDD)
  • イッテルビウム (Yb) レーザーに最適なダイクロイックミラー
広帯域可変型超短パルス用コンプレッサー 広帯域可変型超短パルス用コンプレッサー
  • 625-1300nmの広い波長域で3次分散を極小化する負の群遅延分散
  • 最大95%までの高効率でビームパス偏移なし
  • キャリブレーションの必要なし
  • 他の波長オプションをラインナップ
可変型超短パルス用コンプレッサー 可変型超短パルス用コンプレッサー
  • 最小-10,000fs2までの負の群遅延分散で3次分散を極小化
  • 最大99.7%までの高効率でビームパス偏移なし
  • キャリブレーションの必要なし
  • UV、チタンサファイア、Ybドープファイバーや中赤外 (2µm) をはじめとする波長オプション
可変型超短パルス用ストレッチャー 可変型超短パルス用ストレッチャー
  • 最高4000 fs2までの正の群遅延分散で3次分散を極小化
  • 最大95%までの高効率でビームパス偏移なし
  • キャリブレーションの必要なし
  • 可変型超短パルス用コンプレッサーもラインナップ
Polarization Phase Maintaining Mirrors	偏波保持ミラー
TECHSPEC® components are designed, specified, or manufactured by Edmund Optics. TECHSPEC® ブランドの製品は、エドモンド・オプティクスによってデザイン、規格化、あるいは製造されます。もっと詳しく
  • 45°入射で入射円偏光状態を維持
  • 532 or 1064nmで最大99.9% およびアライメント用の650nmで80%の反射率
  • 12.7、25.4、および50.8mm径のデザインをラインナップ
低GDD 誘電体膜超短パルス用レーザーミラー 低GDD 誘電体膜超短パルス用レーザーミラー
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  • 設計波長域で最小±20fs2までのGDD
  • 99.9%超の反射率
  • チタンサファイアやイッテルビウム (Yb) ドープの超短パルスレーザーに最適
1300nm Laser Line Mirrors 1300nm 用レーザーミラー
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920nm Laser Line Mirrors 920nm 用レーザーミラー
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2μm Laser Line Mirrors 2μm 用レーザーミラー
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デュアルバンド ZERODUR® レーザーミラー デュアルバンド ZERODUR® レーザーミラー
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  • 設計波長で99.5%超の反射率
  • 低熱膨張係数
  • 532/1064nm or 635/670/1064nm の波長バンド
755nm アレキサンドライト用レーザーミラー 755nm アレキサンドライト用レーザーミラー
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  • R >99.5% @ 755nm と R >90% @ 625 – 650nm
  • 10-5の表面品質とλ/10の平面度
  • 皮膚科学的アプリケーションでの使用に最適
未コート レーザー用凸面ミラー 未コート レーザー用凸面ミラー
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  • 高精度合成石英ミラー基板
  • 直径と焦点距離別の豊富な選択肢
  • 特注コーティングオプションに対応
チタンサファイア用レーザーミラー チタンサファイア用レーザーミラー New
  • >99.8% Reflectivity at Ti:Sapphire Fundamental and Harmonic Frequencies
  • 10-5 Surface Quality for Reduced Scatter in Laser Applications
  • High Laser Damage Threshold
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