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UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 熱レンズ効果低減 高分散超短パルス用ミラー

UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing

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  • 熱レンズ効果を低減した超短パルス用高分散コーティング
  • 5°入射で-1000fs2までの高い負GDD
  • 50nmのバンド幅にわたり 99.5%超の最小反射率 (p偏光)
  • ハイパワー超短レーザーパルスの生成に最適
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UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 熱レンズ効果低減 高分散超短パルス用ミラーは、-1000fs2のGDDと、熱レンズ効果の無視が可能な低損失を提供します。熱レンズ効果は、活性利得媒質のビーム軸周辺が他の部分よりも高温になる時に生じる可能性があり、横方向に対して屈折率勾配を招きます。これにより、レーザーキャビティーの位置がずれ、異なるレーザーモード分布やビームポインティングのドリフトが起こります。本ミラーは、ビーム安定性を高度に制御するようにデザインされており、1010 - 1050nm間で99.5%超 (p偏光) の反射率が得られます。5°の設計入射角で一対の超短パルス用ミラー間の反射回数を最大化し、パルス圧縮を可能にしながら、熱レンズ効果を制限します。UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 熱レンズ効果低減 高分散超短パルス用ミラーは、キャビティ内アプリケーション、超短パルス高エネルギー発振器、およびYb:YAG 薄型ディスクレーザーシステムなどの増幅器に最適です。ご使用のレーザーシステムが特注のサイズや波長、もしくはパルス特性を必要とする場合は、お問い合わせください。

 
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