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UV、IR、広帯域、超短パルスレーザー用途にメリットのある反射型オプティクス |
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小型化された顕微鏡用対物レンズにより実現するポータブルな顕微鏡システム |
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液体レンズの実装によって可能になるイメージングシステムの素早いオートフォーカス |
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コンパクトなEUV光源が促進する新たなアプリケーション |
オプティクスおよびイメージング産業は、先端医療、マシンビジョン、半導体加工などの市場に牽引される新たな開発によって常に進化しています。エドモンド・オプティクスでは、その中でもっとも大きなインパクトを与えている革新的な技術を今月の「光学テクノロジー最前線」で特集します。2018年で特筆すべき4つのトレンドは、レーザーアプリケーション向けの反射型オプティクス、小型化された顕微鏡用対物レンズ、イメージングでの液体レンズの活用、そして極端紫外 (EUV) 用オプティクスです。
光学テクノロジー最前線 May 2018
レーザー手術から分光、微細加工に至るまで、幅広いアプリケーションがUVレーザー、IRレーザー、広帯域レーザー、超短パルスレーザーに依存しています。しかし、ビームエキスパンダーのような伝統的な透過型のビーム整形用オプティクスは、波長依存性があり、分散の影響を受けるため、このような非可視光レーザー用にオプティクスを見つけることは容易ではありませんでした。反射型ビームエキスパンダーやミラーは、その広帯域なアクロマティックデザインにより、色収差や球面収差を取り除くことによってこうした問題を解決します。また、反射型オプティクスは、特定の帯域や非可視光用途向けにデザインされたオプティクスよりも価格的に手頃になる傾向があります。
光学テクノロジー最前線 April 2018
小型化された、コンパクトな顕微鏡対物レンズは、顕微鏡システムのサイズと重量を低減し、よりポータブルにします。顕微鏡のポータブル化によって、水質モニタリング、疾病検査、顕微鏡を用いる産業試験をはじめとする様々なアプリケーションの現場で、素早く結果を得ることができるようになります。コインを数枚重ねた程度の大きさの、現代的な小型対物レンズは、シンプルなメカニクスとコンパクトな光学設計によって可能になりました。大型で重量もあり複雑な従来型の顕微鏡システムに比べて、素早い結果が求められるフィールドワークにとってはるかに実用的なものになります。小型化された顕微鏡対物レンズは、通常、固定絞り、小型バッフル、固定焦点を採用します。
光学テクノロジー最前線 June 2018
液体レンズをイメージングシステムに実装することによって、高速性が求められるアプリケーションにおいて、異なる高さもしくは作動距離にある対象物に合わせて素早くピントを調整することができます。液体レンズは、光学グレードの液体を内包した小さなセルでできており、電流か電圧を加えるとわずか数ミリ秒で形状が変わります。その結果、曲率が変化し、レンズの光学パワーがシフトします。そのため、焦点距離や作動距離もシフトします。素早いピントの再調整が必要なアプリケーションで使用される従来のイメージングレンズでは、機械的な調整が必要なため、シャープで正確な画像を素早く取得するのは困難です。液体レンズをマシンビジョンシステムやライフサイエンスシステムに実装することによって、ピントの再調整や被写界深度/作動距離の調整を素早く行うことができるため、スループットの向上がはかれます。
光学テクノロジー最前線 July 2018
おおよそ10～100nmの波長域の新しいコンパクトな極端紫外 (EUV) 放射源は、0.5nmという高い解像度のイメージング、分子力学/固体力学の研究、光学分光/光電子分光、ナノテクノロジー用のナノマシニングをはじめとした多くの新しいEUVアプリケーションを生み出しています。しかし、EUV放射はほぼすべての材料で強く吸収され、短波長では散乱が高くなるため表面粗さを精密に制御する必要があり、EUVスペクトルで使用可能な光学部品を開発することは容易ではありません。こうした課題が、超精密研磨された反射型EUV用オプティクスの開発につながり、光学部品技術の新境地を開こうとしています。
TECHSPEC® モノリシック構造 反射型ビームエキスパンダー (Mark I) は、どの倍率のものがある？
TECHSPEC® 超小型対物レンズアッセンブリは、どの位小さい？
焦点距離8mmタイプのTECHSPEC® 超小型対物レンズアッセンブリのサイズがもっとも小さくなります。このモデルの全長は10.8mmです。また、焦点距離が10mmのタイプもあり、こちらは全長が21.2mmです。
液体レンズは、固定焦点レンズなど他の種類のレンズにも実装することができる？
はい。特注のオプションとして、液体レンズを他の種類のレンズに実装することも可能です。また、液体レンズ、固定絞り、フィルター用ホルダーなどの取り替え可能なアクセサリーを実装できるCxシリーズ 固定焦点レンズもご用意しています。
極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、なぜ13.5nm用に設計されている？
13.5nmはもっともよく使用される極端紫外 (EUV) 波長の1つのため、EUV用平面ミラーは、13.5nm用に設計されています。たとえば、リソグラフィで使用されるスズプラズマ光源は13.5nmで出射します。それ以外のEUV用アプリケーションでも、この波長が標準波長として採用されています。
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