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Trending in Optics

2018年のトレンドTOP 4

December 2018 | 光学テクノロジー最前線の全ての記事を見る
Top Four Trending Topics

顕微鏡、イメージング、レーザーオプティクス、極端紫外 (EUV) 用オプティクスにおける前進

 

UV、IR、広帯域、超短パルスレーザー用途にメリットのある反射型オプティクス

 

小型化された顕微鏡用対物レンズにより実現するポータブルな顕微鏡システム

 

液体レンズの実装によって可能になるイメージングシステムの素早いオートフォーカス

 

コンパクトなEUV光源が促進する新たなアプリケーション

オプティクスおよびイメージング産業は、先端医療、マシンビジョン、半導体加工などの市場に牽引される新たな開発によって常に進化しています。エドモンド・オプティクスでは、その中でもっとも大きなインパクトを与えている革新的な技術を今月の「光学テクノロジー最前線」で特集します。2018年で特筆すべき4つのトレンドは、レーザーアプリケーション向けの反射型オプティクス、小型化された顕微鏡用対物レンズ、イメージングでの液体レンズの活用、そして極端紫外 (EUV) 用オプティクスです。

よくある質問 (FAQ)

FAQ  TECHSPEC® 超小型対物レンズアッセンブリは、どの位小さい?

焦点距離8mmタイプのTECHSPEC® 超小型対物レンズアッセンブリのサイズがもっとも小さくなります。このモデルの全長は10.8mmです。また、焦点距離が10mmのタイプもあり、こちらは全長が21.2mmです。

FAQ   液体レンズは、固定焦点レンズなど他の種類のレンズにも実装することができる?

はい。特注のオプションとして、液体レンズを他の種類のレンズに実装することも可能です。また、液体レンズ、固定絞り、フィルター用ホルダーなどの取り替え可能なアクセサリーを実装できるCxシリーズ 固定焦点レンズもご用意しています。

FAQ  極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、なぜ13.5nm用に設計されている?

13.5nmはもっともよく使用される極端紫外 (EUV) 波長の1つのため、EUV用平面ミラーは、13.5nm用に設計されています。たとえば、リソグラフィで使用されるスズプラズマ光源は13.5nmで出射します。それ以外のEUV用アプリケーションでも、この波長が標準波長として採用されています。

 

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