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    設計波長 DWL (nm)
    基板
    コーティング
    タイプ

    レーザー用ビームスプリッター

    レーザー用ビームスプリッターは、多くのレーザーアプリケーションにおいて1本のレーザービームを2本の個別のビームに分離するために用いられます。レーザー用ビームスプリッターは、レーザービームのある性質部分のみを反射するようにデザインされており、一般的には特定の波長や偏光状態の光を反射させ、他の光は透過させます。レーザー用ビームスプリッターは、プレート型ビームスプリッター、キューブ型ビームスプリッター、台形型ビームスプリッターを始めとする、いくつかの異なるタイプのものをラインナップしています。またダイクロイックビームスプリッターも、ラマン分光アプリケーション用にラインナップします。

    エドモンド・オプティクスは、多くのビームマニピュレーションニーズ向けに広範なレーザー用ビームスプリッターをご用意しています。プレート型ビームスプリッターは、特定角度に設置した時に特定波長の反射の最大化を実現します。キューブ型偏光ビームスプリッターは、一対の直角プリズムを貼り合わせて構成され、ランダム偏光のレーザービームを分離するために用いられます。台形型ビームスプリッターは、ロンポイドプリズムと直角プリズムを貼り合わせて構成され、レーザービームを2本の平行ビームとして分離するために用いられます。

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    Nd:YAG ハーモニックセパレーター
    • Nd:YAG高調波を分離するのに使用
    • 95%を超える透過率が得られるビームスプリッター用コーティング
    • λ/10の平面度を持つ合成石英製基板使用
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    Nd:YAG レーザービームサンプラー
    • 未コートの第一面でフレネル反射
    • 片面側に高レーザー耐力コーティング
    • 10-5の表面品質

    ダイクロイック・レーザービームコンバイナー
    • 偏光依存性なし
    • スパッタリング式ハードコーティング採用
    • 各種サイズをラインナップ

    高エネルギーレーザー用偏光フィルター
    • 10,000:1の高消光比
    • 45° の設計入射角
    • 複数のレーザー波長用をラインナップ
    Clearance
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    高エネルギーレーザーライン用プレート型偏光フィルター
    • 355nm, 532nm, 1064nmの3バージョン
    • 45°か56°の設計入射角
    • 高レーザー耐力

    高出力レーザー用キューブ型偏光ビームスプリッター
    • 高レーザー耐力を実現するオプティカルコンタクト法によるデザイン
    • p偏光の光の96%以上を透過
    • 1000:1を超える高い消光比
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    レーザーライン用キューブ型無偏光ビームスプリッター
    • s偏光とp偏光入射時の透過率差が3%未満
    • 入出射面にR<0.25%を実現するARコーティング採用
    • Nd:YAG と He-Ne レーザー用オプション

    レーザーライン用プレート型無偏光ビームスプリッター
    • 高レーザー耐力
    • フェムト秒アプリケーション用に低GDDコーティングを採用
    • 入射ビームの偏光状態に影響を受けずに分岐
    Clearance
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    レーザー用プレート型無偏光ビームスプリッター
    • 入射ビームの偏光状態に依存しない
    • エキシマグレード合成石英の精密ガラス基板を採用
    • 50R/50Tデザイン
    • 高レーザー耐力

    レーザーライン用キューブ型偏光ビームスプリッター
    • 共通のダイオード、ガス、固体レーザー用にデザイン
    • s偏光の光を反射、p偏光の光を透過
    • 高消光比

    台形型ビームスプリッター
    • 無偏光タイプは、可視域で機能するVISタイプと近赤外域で機能するNIRタイプをラインナップ
    • 光学系全体の簡素化が可能
    • 入射光を2本に分割し、同じ方向に平行性を持って出射するようにデザイン

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