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クリアパス1951 USAFテストターゲット


  • X線、UV、感熱、或いは遠赤外 (FIR)用撮像光学系の限界解像度評価用に
  • 透過照明用に最適
  • マウントを容易にする金枠付き

 クリアパスUSAFターゲットは、電解蒸着により作られたニッケルの極薄い基板を用いて製造されます。USAFパターン内にはガラスが一切使用されていないため、その光路は空気のみとなり、波長による分散の影響や基板による光の吸収の問題をなくすことができます。USAFテストパターンは、グループ0/ライン1からグループ3/ライン6までに対応しています。合成石英製のUSAFターゲットが主に近紫外光を用いたアプリケーションに効果的なのに対し、本ターゲットは深紫外や遠赤外光を用いたアプリケーションに特にお勧めです。ニッケルの基板自体は、所定のサイズの2枚の金枠間に固定されます。

共通データ

Number of Line Pairs / mm in USAF Resolving Power Test Target 1951
Element
Group No.
0 1 2 3
1 1.00 2.00 4.00 8.00
2 1.12 2.24 4.49 8.98
3 1.26 2.52 5.04 10.10
4 1.41 2.83 5.66 11.30
5 1.59 3.17 6.35 12.70
6 1.78 3.56 7.13 14.30

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