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極端紫外 (EUV) 用平面ミラー

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors


  • 13.5nmで最大限の反射率を達成
  • 極端紫外のビームステアリングや高調波分離用にデザイン
  • 入射角5°と45°をラインナップ

極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、設計波長や設計入射角で最大限の反射率が達成できるようにデザインされた多層膜ミラーです。このミラーは、3Å RMS未満の面粗さを持つスーパーポリッシュした単結晶シリコン基板にコーティング蒸着を施しています。入射角45°のミラーは、s偏光のビームステアリング用に、対する入射角5°のミラーは、非偏光との使用に有益です。EUVミラーのアプリケーションに、コヒーレント回折イメージング (CDI) や材料科学があります。極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、高調波発生 (HHG) ビームの高調波セレクターとしても機能することができます。

補足: ミラーの各製造ロットのサンプルテストデータ付きです。

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