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UVホログラフィックディフューザー


  • 基板に合成石英ガラスを使用。紫外~近赤外に対する高拡散透過効率を実現
  • 高温度下での使用にも最適
  • 200nmの紫外短波長側でも透過効率 70%レベルを実現
  • ポリカーボネイト基板採用のスタンダードバージョンもラインナップ

ホログラフィックディフューザーの基板を合成石英ガラスに変えることにより、紫外~近赤外に渡る幅広い帯域での光拡散用途を可能にしました。基板表面のホログラムパターンも、ゾルゲル加工により同材料で作られます。波長200nmの紫外短波長側でも70%レベルの高透過効率を実現します。また熱膨張係数の低い合成石英ガラスの使用により、使用上限温度も改善されます。エドモンド・オプティクスでは拡散角度が0.5°から50°まで、全10種類の拡散角度をご用意しました。いずれもアルミ製の金枠のついた枠付きタイプで、枠直径25mmと50mmの2サイズが選べます。

ホログラフィックディフューザーの代表的用途:

  • 照度ムラの解消: ランダムに配置された無数の凹凸パターンにより、照度ムラのある光が入射した場合でも、基板を通過後の光が重なり合い、照度分布はガウシアン分布になります。この機能は、画像処理や顕微鏡照明等の用途に最適です。
  • 均一投影: ランプ中心の輝度を効率的に拡散し、周辺に配光するため、ムラのない均一な投影像が得られます。液晶やスライドプロジェクターの像の投影用途に最適です。
  • ビーム整形: 楕円整形ディフューザーにレーザーや円形開口の白色照明を照射すると、レーザーラインや楕円形状の照明光が得られます。

下記に掲載の拡散角度は、入射光に平行光を用いた時の値であり、平行光入射に対して最も有効に機能するようデザインされています。本製品の場合、拡散角度は最高輝度の半値が得られる角度として定義し、全角で表示しています。拡がり角を持った光が入射した場合は、その発散角により得られる拡散角度も異なってきます。

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