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261.4nm レーザー用オプティクス

Optics for 261.4nm Lasers

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261.4nm用にデザインされたレンズ、ミラーおよびウインドウ
高エネルギーUVフォトンに耐える高い損傷閾値
UVC Photonics モデル261 レーザーとの使用に最適

261.4nm レーザー用オプティクスは、UVレーザーシステムの要求の厳しいニーズに対応するため、厳格な面公差と高レーザー損傷閾値で製造されます。261.4nm用にデザインされたレンズ、ミラー、ウインドウをラインナップし、ビームフォーカシングやビームステアリング、および繊細な部品の保護に向けたソリューションを提供します。フィルターやビームエキスパンダー、ビーム整形用オプティクスを始め、266nmで光学設計され、261nmでも良好に機能するオプティクスも、UV検出や同測定製品との使用に向けラインナップします。261.4nm レーザー用オプティクスは、 UVC Photonics モデル261 レーザー などのUVレーザーとの使用や、UV消毒システム、生物医学蛍光学、およびUVラマン分光を始めとするアプリケーションでの使用に最適です。特注のサイズや形状、もしくはコーティングをもつ261.4nm用光学部品がアプリケーション上必要となる場合は、お問い合わせください。

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特注

エドモンド・オプティクスでは、お客様の特定のアプリケーション要件に合わせたオプティクスおよびイメージング部品の包括的な特注品製造サービスをご提供しています。試作段階でも量産準備中でも、お客様のニーズに応じた柔軟なソリューションをご用意しております。経験豊富なエンジニアが、構想から完成までサポートいたします。

当社の対応範囲には以下が含まれます:

  • 特注寸法、材料、コーティングなど
  • 高精度な表面品質と平面度
  • 厳密な公差と複雑な形状
  • 試作から量産まで対応可能な生産スケーラビリティ

詳細は特注品の製造能力をご覧いただくか、こちらからお問い合わせください。

 
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