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800 - 1150nm, 12.7mm Dia. Ultrafast-Enhanced Silver, Silicon, Laser Mirror

Name: 800 - 1150nm, 12.7mm Dia. Ultrafast-Enhanced Silver, Silicon, Laser Mirror
Brand: TECHSPEC
SKU: 90-194
Price: ¥12,720 JPY

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仕様
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仕様

概要

タイプ:

Flat Mirror

物理的および機械的特性

平行度 (分):

有効径 CA (%):

基板裏面側:

Commercial Polish

直径 (mm):

12.70 +0.00/-0.10

全厚 (mm):

3.18 ±0.10

端面:

Ground, protective bevel as needed

光学的特性

表面品質 (キズ-ブツ):

40-20

コーティングスペック:

Ravg >99% @ 850 - 1150nm, 0° Rs >99% @ 800 - 1150nm, 45° Rp >98.5% @ ~850 - 1100nm, 45°

GDD スペック:

0 ±30 fs² @ 800-1100 nm

波長範囲 (nm):

800 - 1150

平面度 (P-V):

λ/1

コーティングタイプ:

Ultrafast-Enhanced Silver

コーティング:

Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)

Optical Grade Silicon

0.35 J/cm² @ 1030nm, 200fs, 1 pulse (typical) 0.10 J/cm² @ 1030nm, 200fs, 100Hz, 1000 pulses (typical)

法規制対応状況

適合証明書:

内容を見る

商品詳細

シリコン基板で熱的要求の厳しい超短パルス構成に対応
チタンサファイヤやYbベースの超短パルスレーザーシステムに最適
低分散が重要になるウルトラファストパルス反射用にデザイン
対象の波長範囲で30fs²未満のGDD

TECHSPEC® 超短パルス用反射強化銀コート付きシリコンレーザーミラーは、超短パルスアプリケーション用に広帯域反射強化銀コーティングと低群遅延分散 (GDD) 特性を組み合わせます。本ミラーは、パルスの忠実性を維持することが重要になるシステム用にデザインされており、反射率やGDDは600 – 1000nm、あるいは800 – 1150nmの規定波長範囲にわたって特徴付けされています。このシリコン基板ミラーは、比較対象となる合成石英基板ミラーよりも熱伝導率が高く、熱的要求の厳しい光学セットアップで吸収した熱を均一に分散させます。TECHSPEC 超短パルス用反射強化銀コート付きシリコンレーザーミラーは、高反射率、制御された分散、および熱的にロバストな基板が所望される広帯域超短パルスビーム伝送に最適です。