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UltraFast Innovations (UFI) 分散制御超短パルス用ミラー

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  • 分散制御、パルス圧縮、および分散補償用にデザイン
  • 要求の厳しいレーザーアプリケーション用の高反射率コーティング
  • 超短パルスレーザーシステム内への実装用に最適化

UltraFast Innovations (UFI) 分散制御超短パルス用ミラーは、超短パルスレーザーシステム内のパルス圧縮と分散補償用にデザインされています。このミラーは、一連のウルトラファストレーザーアプリケーションにわたり、高い反射率と分散制御を実現します。UV、NIR、および中赤外 (MIR) の波長オプションに加え、レーザーシステムの異なるニーズに対応するさまざまな入射角オプションをラインナップします。UltraFast Innovations (UFI) 分散制御超短パルス用ミラーは、レーザー圧縮器、チャープパルス増幅器システム、および超高速ビーム輸送をはじめとするアプリケーションに用いることができます。レーザーシステムの特定要件に向けて、サイズ、波長、およびデザインの特注も検討可能です。

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エドモンド・オプティクスでは、お客様の特定のアプリケーション要件に合わせたオプティクスおよびイメージング部品の包括的な特注品製造サービスをご提供しています。試作段階でも量産準備中でも、お客様のニーズに応じた柔軟なソリューションをご用意しております。経験豊富なエンジニアが、構想から完成までサポートいたします。

当社の対応範囲には以下が含まれます:

  • 特注寸法、材料、コーティングなど
  • 高精度な表面品質と平面度
  • 厳密な公差と複雑な形状
  • 試作から量産まで対応可能な生産スケーラビリティ

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