ラピッドプロトタイピングを可能にするEUVオプティクスの在庫販売ラインナップを拡充

Edmund Optics^®(EO) の日本法人、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社は極端紫外線 (EUV)アプリケーション用に設計された製品の提供を拡大し、その豊富な在庫をさらに拡充した。今回の製品拡充には、コヒーレント回折イメージング (CDI)、EUVリソグラフィ、ナノマシニング、超短パルスのアト秒パルス生成など、拡大する高次高調波発生 (HHG) アプリケーションに向けた極端紫外 (EUV) 用ダイクロイックフィルターも含まれる。

このフィルターは、エドモンド・オプティクスの広範なEUVオプティクスの在庫販売品の中ではもっとも新しい製品。同社のEUVオプティクスによって、ラピッドプロトタイピングのほか、研究開発や製品開発のスピードアップが可能になる。アプリケーション固有の特殊な要求にも合致する広範なEUV製品が在庫品として入手可能になることによって、光学システムのインテグレーターはこれまで特注製作に費やしていた長いリードタイムを節約することができる。エドモンド・オプティクスでは、極端紫外 (EUV) 用平面ミラー、UltraFast Innovations (UFI) EUV アト秒多層膜ミラーも在庫販売しており、短納期で出荷可能だ。

ダイクロイックビームスプリッターもしくはビームセパレーターとしても知られる極端紫外 (EUV) 用ダイクロイックフィルターは5nm～40nmの広い帯域幅を有し、EUVから近赤外 (NIR) の波長にわたって高い分離効率が得られる。このフィルターは合成石英製のため、ブリュースター角のビームセパレーターなど、他の種類のEUVフィルターよりも高いレーザーパワーに対応する。

こうした製品のほか、エドモンド・オプティクスのその他の新製品は、www.edmundoptics.jp

の新製品ページで確認することができる。