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UltraFast Innovations (UFI) 2μm 高分散広帯域超短パルスミラー

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  • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
  • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
  • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
  • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング

UltraFast Innovations (UFI) 2μm 高分散広帯域超短パルスミラーは、ウルトラファスト用チャープコーティングを採用し、ツリウム (Tm) やホルミウム (Ho) レーザーのパルス圧縮や内部共振器の分散補償用にデザインされています。このミラーは、5°の入射角時に -1000fs2の高い負群遅延分散 (GDD) が得られ、100fs未満のパルス圧縮を可能にします。2000~2200nm間で99.9%を超える低損失反射率 (p偏光) が得られるこの2μm用ミラーは、99.95%を超える絶対反射率を実現します。UltraFast Innovations (UFI) 2μm 高分散広帯域超短パルスミラーは、その卓越したスペクトル性能、低損失、実証済みのGDDから、2μm の薄型ディスクレーザー発振器内での使用に最適です。本高分散ミラーは、12.7mm径と25.4mm径の2つの標準サイズをラインナップし、フェムト秒レーザーシステム内への実装に理想的です。

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技術情報

特注

エドモンド・オプティクスでは、お客様の特定のアプリケーション要件に合わせたオプティクスおよびイメージング部品の包括的な特注品製造サービスをご提供しています。試作段階でも量産準備中でも、お客様のニーズに応じた柔軟なソリューションをご用意しております。経験豊富なエンジニアが、構想から完成までサポートいたします。

当社の対応範囲には以下が含まれます:

  • 特注寸法、材料、コーティングなど
  • 高精度な表面品質と平面度
  • 厳密な公差と複雑な形状
  • 試作から量産まで対応可能な生産スケーラビリティ

詳細は特注品の製造能力をご覧いただくか、こちらからお問い合わせください。

 
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