UFI 高分散超短パルス用ミラー 25.4mm 800nm 5°

• パルス圧縮と分散補償用の超短パルス用チャープコーティング
• 最大99.9%超までの高反射率に精密制御された負の群遅延分散 (GDD)
• チタンサファイア、Ybドープ、ツリウム (Tm)、ホルミウム (Ho) のウルトラファストレーザーシステム用をラインナップ

UltraFast Innovations (UFI) 高分散超短パルス用ミラーは、超短パルスのパルス圧縮と分散補償に向けて、分散光学干渉に基づく超短パルス用の多層チャープコーティングを採用しており、高い反射率と負の群遅延分散 (GDD) を実現します。3次およびそれ以上の高次分散の制御と高いビーム安定性に向けてデザインされたこのミラーは、チタンサファイア、Ybドープファイバー、薄ディスク、ツリウム (Tm)、およびホルミウム (Ho) のレーザーシステム用をラインナップしています。製品群の中は、広帯域性能、共振器内分散補償、および熱レンズ効果低減に向けたソリューションが含まれ、標準品のインチサイズに加えて、特殊なアプリケーション向けに特注のサイズ、波長、パルス仕様も対応可能です。