UFI 高分散超短パルス用ミラー 25.4mm 800nm 5°

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

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タイプ:

Laser Mirror

Wedge (arcmin):

10 ±5

有効径 (%):

基板裏面側:

Commercial Polish

反射率 (@設計波長) (%):

>99.9% (typical, p-polarization)

コーティングスペック:

R_avg >99.8%, GDD = -1300 fs² @ 780 - 830nm (p-polarization)
R_abs >99.9% @ 800nm (typical, p-polarization)

GDD スペック:

-1300fs² @ 780 - 830nm

波長域 (nm):

780 - 830

イレギュラリティ (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

コーティングタイプ:

Dielectric

コーティング:

Ultrafast (780-830nm)

設計波長 DWL (nm):

800

直径 (mm):

25.40 +0.0/-0.1

全厚 (mm):

6.35 ±0.2

入射角 (°):

Fused Silica (Corning 7980)

0.3 J/cm² @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

環境規制対応状況

RoHS 2015/863:

適合

適合証明書:

内容を見る

Reach 235:

適合

製品群全体の紹介

780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
5°入射で-1300fs² のGDD 群遅延分散
チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
ウルトラファスト用チャープコーティング

800nm 高分散超短パルス用ミラーは、分散光学干渉ベースで最適化された多層膜を採用し、低群遅延分散 (GDD) と高反射率を実現します。このミラーは、5°の設計入射角時に -1300fs²のGDDとp偏光側で99.8％の最低反射率が得られます。高分散デザインの本ウルトラファストミラーは、3次とより高次の分散を制御し、高いビーム安定性を実現します。800nm 高分散超短パルス用ミラーは、チタンサファイアレーザーからなどの超短パルス光のパルス圧縮や分散補償に理想的です。10-5の表面品質とλ/10のイレギュラリティを持つ合成石英基板を採用し、標準的なインチサイズをラインナップします。