UFI EUV アト秒多層膜球面ミラー 25.4 x 500

• 330 アト秒パルス @ 65eV (19nm) 用にデザイン
• ピーク反射率38%の多層膜コーティング
• ≤1Å (オングストローム) の表面粗さのスーパーポリッシュ基板
• 13.5nmでデザインされた EUV 平面ミラー と EUV 球面ミラー もラインナップ
• 最低発注数量やコーティングのロットチャージなし
• 2022年度 Laser Focus World (LFW) イノベーターズアワード プラチナ賞受賞

UltraFast Innovations (UFI) 極端紫外 (EUV/EUV) アト秒多層膜ミラーは、アト秒パルスのステアリングや集光、および整形用にデザインされています。その多層膜コーティングは、65eV (19nm) を中心にして6eV (1.8nm) のバンド幅を持ち、s偏光の光に対して38％のピーク反射率が得られます。本ミラーは、330 アト秒の持続時間を持つEUVパルスに対応します。UFI 極端紫外 (EUV/EUV) アト秒多層膜ミラーは、高次高調波発生 (HHG) や自由電子レーザー (FEL)、もしくはその他の量子光学アプリケーションをベースにしたアト秒パルスの生成や整形に理想的です。 

原子レベルの精密なイオンビーム蒸着により、原子レベルの平滑なコーティング層を形成します。このミラーは、成長するアプリケーション領域において波長とスペクトル位相の精密な制御を高効率で可能にします。アト秒科学は、超短パルスレーザーの限界を押し広げ、電子の運動のような最も本質的な科学プロセスの一部にアクセスします。EUVミラーは、XUV/軟X線ミラーとも呼ばれます。EUV アト秒多層膜ミラーの物理的原理は、多層膜スタックの各境界面から反射・散乱したEUV放射の干渉です。25.4mm径の平面ミラーと凹面ミラーをラインナップ。特注の中心エネルギー、バンド幅、もしくはその他の仕様のEUV多層膜ミラーがアプリケーション上必要となる場合は、お問い合わせください。