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レーザーライン用プレート型無偏光B/S 355NM

商品コード #33-033
¥38,350
数量 1-5
¥38,350
数量 6
¥30,700
数量 6+
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直径 (mm):
25.40 +0.0/-0.1
直径公差 (mm):
+0.0/-0.1
平面度:
λ/8
基板:
Fused Silica
反射 / 透過比 (R/T比):
50/50
設計入射角 (°):
45
Polarization Separation (Rs-Rp) (%):
<5
設計波長 DWL (nm):
355
面取り:
<0.25mm x 45°
有効径 (%):
>90
構造:
Plate
パルスレーザー耐力:
>1 J/cm2 @ 1064nm, 10ns
設計波長 DWL (µm):
0.355
耐久性:
MIL-C-675A
反射率 (Rs%, Rp%):
50 ±5
表面品質 (キズ-ブツ):
20-10
厚さ (mm):
5.00
厚み公差 (mm):
±0.1
タイプ:
Non-Polarizing Beamsplitter
RoHS対応状況:
適合
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製品群全体の紹介

  • 高レーザー耐力
  • フェムト秒アプリケーション用に低GDDコーティングを採用
  • 入射ビームの偏光状態に影響を受けずに分岐

 レーザーライン用プレート型無偏光ビームスプリッターは、偏光の制御が重要となる要求の厳しいレーザーアプリケーションでの使用に最適です。レーザーライン用プレート型無偏光ビームスプリッターは、システム性能を向上させて、高いレーザー耐力と入射ビームの偏光状態を維持するために、基板上に誘電体膜を積層して作られます。1025~1095nm用のコーティングは、Nd:YAGやYb:KGW、Yb:YAGを始めとする産業用で最も市販されているパルスレーザーの一部に向けてデザインされています。またフェムト秒レーザーアプリケーション向けには、入射ビームのパルス幅を維持するようにデザインされた低GDDコーティングも選べます。

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