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レーザーオプティクスの製造: 計測

 
計測

測定なくして製造はできません

エドモンド・オプティクスは、すべての仕様を満たしていることを保証するため、様々な最先端測定技術を使用しています。当社のインプロセス計測には、キャビティリングダウン分光法、白色光干渉法、非接触3D形状測定法などがあります。社内レーザーテストラボでは、レーザー損傷閾値の内部プロセス改善と検証が可能です。

 
 

テクノロジー

 

キーテクノロジー

低コヒーレンス長干渉法

  裏面からの反射を最小限に抑えながら、平行でフラットな面を測定するのに特殊なLED光源を使用

  裏面の特別な処理が不要になり、測定時間や部品への損傷のリスク、および不正確な測定のリスクを最小化

  裏面側に応力補償コーティングを施したIBSコート付きミラーなど、両面コート付きの光学部品の測定に最適

 

キーテクノロジー

光熱共通光路干渉計

  吸収を正確に測定し、光学コーティングや基板の分光特性をより正確に評価

  吸収に起因した熱膨張による屈折率変化を測定するポンプ・プローブ形状

  透過率を直接測定することで吸収率を間接的に決定する分光光度計よりも、非常に低いレベルの吸収をより高感度かつ正確に測定

 
 

キーテクノロジー

レーザーオプティクスアッセンブリの計測

  アッセンブリ品の性能を測定する社内試験設備

  透過波面誤差

  レーザービームプロファイリング

  バケット内パワーとターゲット上のエネルギーを測定

  アプリケーションに特化したテスト開発

 

キーテクノロジー

UV劣化とレーザー誘起汚染試験

  UVレーザーの長時間露光実験が可能な社内レーザーラボ

  レーザー誘起汚染はUVレーザーシステムにとって重要な懸念事項

  環境やアウトガスに起因する汚染は性能を著しく低下させ、システム故障につながる可能性あり

  こうした影響を軽減する洗浄や組み立て技術に関する深い造詣

 
 

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* デュアルユースという用語は、EAR (米国輸出管理規則) の対象となる品目の種類を説明するためによく使用されます。デュアルユース品目とは、軍事または大量破壊兵器 (WMD) 関連の用途だけでなく、民間用途の両方を持つ品目のことです。

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