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高レーザー損傷閾値のコーティング、厳格な公差をもつレーザーオプティクス基板、光学部品、あるいはレーザーアッセンブリを必要としていても、当社にはお客様のアプリケーションに必要なレーザー光学部品を製造・測定する専門知識と最新設備があります。下の表に紹介されたものよりも厳しい仕様が必要な場合は、経験豊富な当社のレーザー光学エンジニアにお問い合わせください。
図面に沿った製作 & 完全特注デザイン
試作から量産まで製造
複雑なコーティング： 高レーザー損傷閾値, マルチバンド反射防止, 高反射 or 部分反射
波長 248nm – 12µmまでの反射防止コーティングと248nm – 40µmまでの高反射率波長
最新の測定技術で仕様に一貫して適合
エドモンド・オプティクスのエンジニアは、お客様のアプリケーションにベストなコーティング技術を選定し、お客様のプロジェクトを成功に導く専門知識があります。
コーティング曲線サンプル
以下のコーティング曲線は、対応力の全てを要約したものではありませんが、エドモンド・オプティクスがデザインしたコーティングのいくつかの例を紹介しています。
電子ビーム (E-Beam) コーティング
レーザー光学部品の多くに最適な低応力かつ費用対効果の高いコーティング
イオンアシスト蒸着 (IAD) E-Beam コーティング
より緻密で環境的により安定したコーティングを実現する万能コーティング技術
イオンビームスパッタリング (IBS) コーティング
高反射率, 超短パルス用光学部品, 急峻な転移を持つフィルターに最適な、高度な再現性と安定性を持つ成膜技術
マグネトロンスパッタリング
低いチャンバー圧力でセットアップ時間を短縮し、大量の光学部品に対してより経済的な成膜が可能
| 光学用コーティングの対応力 | |
|---|---|
| 仕様 | 値 |
| 寸法 | 2 – 457.2mm |
| 有効径 | 最大100%まで (基板の寸法 / 形状 / 公差に依存) |
| 反射率 | R <99.99% (ppmレベル損失もご要望に応じて) |
| 反射防止波長範囲 | 248nm – 12µm |
| 高反射率波長範囲 | 248nm – 40µm |
| ns パルス用レーザー損傷閾値 (LDT) | >40 J/cm2 @ 1064nm @ 20ns @ 20Hz パルス, 認証値 |
| 超短パルス fs パルス用のレーザー損傷閾値 (LDT) | >0.3J/cm2 @ 800nm, 48fs, 100Hz パルス, 認証値 >0.7 J/cm2 @ 800nm, 200fs, 100Hz >0.4 J/cm2 @ 1030nm, 200fs, 100Hz >0.9 J/cm2 @ 1030nm, 500fs, 100Hz |
| 群遅延分散 (GDD) 範囲 | -4000 – 5000 fs2 |
| 耐久性 | MIL-PRF-13830B APP C, PARA C.3.8.4, PARA C.3.8.5, MIL-C-48497A |
| コーティング技術 | イオンアシスト蒸着 (IAD) の有無を含めた電子ビームコーティング, イオンビームスパッタリング (IBS) |
| ショートパスフィルターのカットオフ波長 | 400 – 1600nm |
| ロングパスフィルターのカットオン波長 | 240 – 7300nm |
| バンドパスフィルターのCWL, OD, およびバンド幅 | 193 – 10,600nm, >OD 7, 1nm - 広帯域 |
| ノッチフィルターのCWL | 355 – 1064nm |
| 反射型NDフィルターの光学濃度 (OD) | |
| フィルターの中心波長 （CWL) 公差 | ±1nm |
| フィルターのエッジ公差 | <1% 偏位, <0.2% 特殊ケース |
| ビームスプリッター（B/S）の波長範囲 | 240 – 20,000nm |
| B/Sの偏光消光比 (S:P) | 10,000:1 |
ミラー, ウインドウ, フィルター, 偏光板を豊富な基板材料で
| 平面光学素子の対応力 | |
|---|---|
| 直径 | 5 - 200mm |
| 寸法公差 | +0/-0.010mm |
| 板厚 | ±0.010mm |
| 有効径 | >90% |
| 平面度 (P-V） | λ/10 ~ λ/20 |
| 面取り幅 (@ 45°) | <0.25mm |
| 表面品質 (キズ-ブツ) | 10-5 |
| 平行度 | <10” |
| 材料 | UVグレード合成石英 (Corning HPFS® 7980), KrFグレード合成石英 (Corning HPFS® 7980)、IRグレード合成石英 (Corning HPFS® 7979), サファイア, N-BK7, N-SF5, N-SF11, CaF2, その他 |
| 表面粗さ | 10 - 15Å 典型値, <1Å (スーパーポリッシュ面) |
特定のレーザー波長用にデザインされた非球面, 球面シングレット, およびアクロマティックレンズ
| レンズの対応力 | |
|---|---|
| 直径 | 5 - 200mm |
| 直径公差 | +0/-0.010mm - +0/-0.025mm |
| 非球面形状誤差 (P-V) ＠ 633nm | 1λ |
| 頂点半径 (非球面) | ±0.1% |
| ピークスロープエラー | 0.35μm/mm (1mm ウインドウ当たり) |
| 偏芯 (ビーム偏角) | <1’ |
| 中心厚公差 | ±0.050mm |
| 表面品質 (キズ-ブツ) | 10-5 |
| 非球面測定 | 触針法 (3D) |
| 表面粗さ (RMS) | 2nm |
| 板厚 | ±0.010mm |
| ニュートン (P-V) | λ/2 |
| イレギュラリティ (P-V) | λ/40 |
結晶の切断, 研削, 研磨, 高LDTと高スループット用のコーティング, 再研磨
| レーザー結晶の対応力 | |
|---|---|
| 寸法公差 | ±0.1mm |
| フォームファクター | ロッド, 長方形, ジグザグ |
| 有効径 | 直径の90% |
| 表面品質 (キズ-ブツ) | 10-5 |
| 研磨面の平行度 | <10’ arcsec |
| 傾斜端の平行度 | <3’ |
| 直交度 | <5’ |
| 面精度 | 有効径にわたり632.8nmでλ/10 |
| 保護面取り | 有効径の侵害なし |
| 材料 | YAG, YLF, YALO, KTP, LBO, BBO, YVO4, PPSLT, PPLN, リン酸塩ドープガラス |
多種多様なプリズム形状と基板、ハイパワービームステアリング用のオプティカルコンタクト法にも対応
| プリズムの対応力 | |
|---|---|
| 寸法 | 2 – 75mm |
| 寸法公差 | +0/-0.01mm |
| 垂直方向高さ | >±0.03mm |
| イレギュラリティ | λ/20 |
| プリズムの物理的角度公差 | ±0.5” |
| 最大面取り幅 (@ 45°) | ±0.05mm |
| 表面品質 (キズ-ブツ) | 10-5 |
| 接着したプリズムアッセンブリ品のビーム偏角 | 0.5’ |
当日出荷も対応可能な世界最大級の光学部品在庫は、当社の在庫販売ページからお求めください。
5週間のリードタイムで標準品のビームエキスパンダーの波長やねじ切り加工の変更に対応
特注品のビームエキスパンダーや集光用対物レンズ、またその他のレーザー光学サブアッセンブリ品の設計や製造に対応
高度な組み立てに向けたアクティブアライメントとセンタリング
内部で焦点を結ばずにゴースト像を発生しないようデザインされたハイパワー用アッセンブリ
物理的な光学伝播のモデリングからレンズ素子の設計, コーティング, 組み立て, テストまで、完全なアッセンブリ品開発
| ビームエキスパンダーの対応力 | |
|---|---|
| 拡大力 | >1X - 20X |
| 設計波長 | Nd:YAG, Yb:YAG, チタンサファイア, Tm/Ho ドープのファイバーレーザー, 広帯域をはじめとする一般的なレーザーライン |
| マウント | Cマウント, M22, M30、カスタム |
| 対応可能なフォーカス機構 | 無回転式スライド光学系, 回転式光学系, 固定式 |
| テスト/設計仕様 | 透過波面誤差, バケツ内パワー / ターゲット上のエネルギー, 集光スポットサイズ |
| 組み立てサイズ | >20mm - 1m |
| 耐久化対応 | アサ―マル化, 衝撃 & 振動, コンタミからのシーリング |
コンセプトから大量生産への移行
迅速なプロトタイピング
クリーンルーム内組み立て
アクティブアライメント & センタリング
テスト & 認証
アッセンブリ品の性能を測定する社内試験設備
透過波面誤差, レーザービームプロファイリング, ビームコースティクス
アプリケーションに特化したテスト開発
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R <99.99% (ppmレベル損失もご要望に応じて)
さまざまな温度や湿度条件変化でより環境的に安定したコーティング
355-1600nm 間の波長に対応するコーティング
超短パルス用コーティングに向けて群遅延分散 (GDD) を制御
超低表面粗さで散乱による損失を最小化
RMS表面粗さ <1Å
12.7~50.8mmまでの標準のサイズと形状
特注のサイズや形状もご要望に応じて
社内の計測機器一式でサポート
ppm レベルの散乱
UVレーザーの長時間露光実験が可能な社内レーザーラボ
レーザー誘起汚染はUVレーザーシステムにとって重要な懸念事項
環境やアウトガスに起因する汚染は性能を著しく低下させ、システム故障につながる可能性あり
こうした影響を軽減する洗浄や組み立て技術に関する深い造詣
透過波面誤差, バケツ内パワー, ターゲット上のエネルギー, 集光スポットサイズの社内試験をサポート
組み立て時に光学部品の芯ずれや傾きを動的に補正
精密対物レンズ, ビームエキスパンダー, その他のアッセンブリ品に不可欠
4室ある組み立て用ISO Class6 クリーンルーム & 1室ある受入検査用のClass 7 クリーンルーム
