UFI 高分散超短パルス用ミラー 12.7mm 800nm 45°

商品コード #12-420 5-7営業日

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タイプ:

Laser Mirror

代表的用途:

Pulse Compression @ 45° of Ti:sapphire Ultrafast Lasers

Wedge (arcmin):

<10

有効径 (%):

基板裏面側:

Commercial Polish

反射率 (@設計波長) (%):

99.8

コーティングスペック:

R_avg >99.8% @ 725 - 1000nm (P-Polarization)

GDD スペック:

-70fs² @ 725 - 1000nm (P-Polarization)

波長域 (nm):

725 - 1000

イレギュラリティ (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

コーティングタイプ:

Dielectric

コーティング:

Ultrafast Chirped (725-1000nm)

設計波長 DWL (nm):

800

直径 (mm):

12.70 +0.00/-0.10

全厚 (mm):

6.35 ±0.2

入射角 (°):

Fused Silica (Corning 7980)

0.2 J/cm² @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

環境規制対応状況

RoHS 2015/863:

適合

適合証明書:

内容を見る

Reach 235:

適合

製品群全体の紹介

高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン

UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射超短パルス用チャープミラーは、45°入射時の超短パルスビーム伝播中のビーム圧縮や分散補償用にデザインされています。この超短パルス用ミラーは、多層のマグネトロンスパッタコーティングの最適化により、725nmから1000nmまでで負の群遅延分散 (GDD) と高反射率が得られます。また光の散乱を最小化する高い表面品質とイレギュラリティの低いレーザーグレード基板を採用し、反射する超短パルスの光パワーや強度の維持を可能にします。UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射超短パルス用チャープミラーは、チタンサファイアなどのフェムト秒レーザーから出射した超短パルス伝播中のパルス圧縮や分散補償に最適です。別の入射角やサイズ、或いは設計波長をもつ超短パルスチャープミラーが必要なアプリケーションは、別途お問い合わせください。