UFI 負分散 UV超短パルス用ミラー 25.4mm 266nm

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors

商品コード #17-066 5-7営業日

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Wedge (arcmin):

有効径 (%):

基板裏面側:

Commercial Polish

コーティングスペック:

R_avg >80% @ 255 - 277nm (5° AOI, p-polarization)

GDD スペック:

-145fs² @ 255 - 277nm (5° AOI, p-polarization)

波長域 (nm):

255 - 277

イレギュラリティ (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

コーティングタイプ:

Dielectric

コーティング:

Highly Dispersive UV (255-277nm)

設計波長 DWL (nm):

266

直径 (mm):

25.40 +0.00/-0.05

全厚 (mm):

6.35 ±0.20

入射角 (°):

Fused Silica (Corning 7980)

環境規制対応状況

RoHS 2015/863:

適合

適合証明書:

内容を見る

Reach 235:

適合

製品群全体の紹介

-145fs²の負のGDD
255 - 277nm間で5°の入射角
UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
独自のUV負分散超短パルス用コーティング

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラーは、優れた熱安定性をもつ25.4mm径の合成石英基板を採用し、UV アプリケーション内への実装を可能にします。分散光学干渉に基づき、超短パルス用チャープコーティングがこのミラーに-145fs²の負のGDDを提供します。ビーム安定性を高度に制御するようにデザインされており、255 - 277nm間で80％超 (p偏光) の反射率が得られます。本ミラーは、5°の設計入射角で一対の超短パルス用ミラー間の反射回数を最大化しながら、設置面積を小さく維持します。UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラーは、チタンサファイアレーザーの3次高調波やYbドープレーザーの4次高調波からの生成など、UV超短レーザーパルスの圧縮を可能にします。ご使用のレーザーシステムが特注のサイズや波長、もしくはパルス特性を必要とする場合は、お問い合わせください。