UFI 負分散 UV超短パルス用ミラー 25.4mm 266nm

• 分散制御、パルス圧縮、および分散補償用にデザイン
• 要求の厳しいレーザーアプリケーション用の高反射率コーティング
• 超短パルスレーザーシステム内への実装用に最適化

UltraFast Innovations (UFI) 分散制御超短パルス用ミラーは、超短パルスレーザーシステム内のパルス圧縮と分散補償用にデザインされています。このミラーは、一連のウルトラファストレーザーアプリケーションにわたり、高い反射率と分散制御を実現します。UV、NIR、および中赤外 (MIR) の波長オプションに加え、レーザーシステムの異なるニーズに対応するさまざまな入射角オプションをラインナップします。UltraFast Innovations (UFI) 分散制御超短パルス用ミラーは、レーザー圧縮器、チャープパルス増幅器システム、および超高速ビーム輸送をはじめとするアプリケーションに用いることができます。レーザーシステムの特定要件に向けて、サイズ、波長、およびデザインの特注も検討可能です。