高解像力顕微鏡用スターターゲット

• 最小パターン寸法 - 100nm と 3300本/mm
• 高精度な電子ビームリソグラフィーを用いて製造
• ネガパターンデザイン

高解像力顕微鏡用スライドターゲットは、高精度な電子ビームリソグラフィーを用いて製造されます。透過率が広帯域 (DUV-VIS-NIR) な10 x 10mmサイズの合成石英基板に高光学濃度のクロム層を施し、それをエッチングすることでパターンが形成されます。クロム層を除去することで、最小100nmサイズのパターンが作られます。高解像力顕微鏡用スライドターゲットは、卓越した寸法的安定性があり、金属製の顕微鏡用スライドホルダー内に固定されます。ネガティブパターンの本ターゲットは、パターン自体が透明なのに対し、パターン以外の背景部はクロム層によって光が遮断されます。

高解像力顕微鏡用USAFターゲット

高解像力顕微鏡用USAFターゲットは、7.5~3300本/mmまでの水平と垂直方向の59ラインパターンにより、透過光での物体の解像限界を容易に決定することができます。本ターゲットには直径 4.0~0.25μmの5つのピンホールパターンもあるため、マイクロイメージングオプティクスの詳細な性能評価が可能です。

高解像力顕微鏡用スターターゲット

高解像力顕微鏡用スターターゲットは、5つのジーメンススターで構成され、ターゲット中央のテーパー状パターンの先端は150nmの最小幅で正確に作られています。このターゲットは、高NAを持つ顕微鏡用対物レンズの解像力評価に最適です。

高解像力顕微鏡用チェッカーボード

高解像力顕微鏡用チェッカーボードは、9.0 x 9.0mm~50 x 50µmまでの正方形パターンで構成されます。チェッカーボードは、画像の歪みやそりのテスト、及び直線のシャープなエッジを利用した画質評価に最適です。

High Res Microscopy USAF Target
High Res Microscopy USAF Targets easily determine the resolution limit of an objective in transmitted light and consists of 59 line patterns with 7.5 to 3300 lp/mm in horizontal and vertical alignment. This target also features 5 pinholes with diameters between 4.0-0.25μm, which allows for detailed characterization of micro-imaging optics.

High Res Microscopy Star Target
High Res Microscopy Star Targets consist of 5 Siemens stars and show the peculiarity that the tapered segments in the center of the stars are precisely manufactured to a minimum width of 150nm. This target is ideal for the determining the resolution of microscope objectives with very high numerical apertures.

High Res Microscopy Checker Board
High Res Microscopy Checker Board features a total size of 9.0 x 9.0mm² out of 50 x 50µm² squares. The checker board is ideal for testing of image skew and curvature, along with determining image quality due to the straight and sharp edges.