ミクロンレベルの精度を要求する撮像デバイスのキャリブレーション用にデザインされました。CCDやCMOSのような電子撮像デバイスは、画素ずらし技術を用いてカメラ自体の解像度を見かけ上高くしているケースがあります。本ターゲットを用いて校正することにより、画像処理アルゴリズムにおける画素ずらしの効果を制限することが可能です。本ターゲットは、ラインとドットの2パターンにより構成されます。各々の幅と直径は、2~10μm (1μm刻み)と25~100μm (25μm刻み)の計13種類です (なおラインの全長は約1.6mmです)。標準的な無色透明のフロートガラスを基板に用いたタイプと、透過/落射照明時に照明光を均一に拡散する乳白色オパールガラス基板タイプが選べます。どちらのタイプも、基板寸法は25.4mmL x 76.2mmW x 1.5mmTの共通サイズです。
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