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UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV アト秒多層膜ミラー

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UltraFast Innovations (UFI) 極端紫外 (EUV/EUV) アト秒多層膜ミラーは、アト秒パルスのステアリングや集光、および整形用にデザインされています。その多層膜コーティングは、65eV (19nm) を中心にして6eV (1.8nm) のバンド幅を持ち、s偏光の光に対して38%のピーク反射率が得られます。本ミラーは、330 アト秒の持続時間を持つEUVパルスに対応します。UFI 極端紫外 (EUV/EUV) アト秒多層膜ミラーは、高次高調波発生 (HHG) や自由電子レーザー (FEL)、もしくはその他の量子光学アプリケーションをベースにしたアト秒パルスの生成や整形に理想的です。 

商品一覧

商品詳細

原子レベルの精密なイオンビーム蒸着により、原子レベルの平滑なコーティング層を形成します。このミラーは、成長するアプリケーション領域において波長とスペクトル位相の精密な制御を高効率で可能にします。アト秒科学は、超短パルスレーザーの限界を押し広げ、電子の運動のような最も本質的な科学プロセスの一部にアクセスします。EUVミラーは、XUV/軟X線ミラーとも呼ばれます。EUV アト秒多層膜ミラーの物理的原理は、多層膜スタックの各境界面から反射・散乱したEUV放射の干渉です。25.4mm径の平面ミラーと凹面ミラーをラインナップ。特注の中心エネルギー、バンド幅、もしくはその他の仕様のEUV多層膜ミラーがアプリケーション上必要となる場合は、お問い合わせください。

技術情報

Chart showing reflectance percentage and phase degrees versus energy in eV for EUV attosecond multilayer mirrors
Chart showing reflectance percentage and phase angle of EUV attosecond multilayer mirrors across wavelengths 11 to 27 nm

取扱い上の注意

これらの光学部品は、損傷を防ぎ、長期的な性能を維持するために特別な取り扱いが必要です。光学品質を保つためには、適切な取り扱い、クリーニング、および保管が重要です。手順やベストプラクティスについては、光学部品洗浄に関する関連資料をご覧ください。ご不明な点がございましたら、メールまたはチャットで技術サポートまでお問い合わせください。

 
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