UFI 高分散超短パルス用ミラー 12.7mm 1030nm 7°

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仕様
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仕様

概要

タイプ:

Laser Mirror

代表的用途:

Yb:doped 1st Harmonic

モデルナンバー:

HD1310

物理的および機械的特性

直径 (mm):

12.70 +0.0/-0.1

全厚 (mm):

6.35 ±0.2

基板裏面側:

Commercial Polish

有効径 CA (%):

ウェッジ角度 (分):

10 ±5

光学的特性

コーティングタイプ:

Dielectric

コーティング:

Ultrafast (1010-1070nm)

波長範囲 (nm):

1010 - 1070

設計波長 DWL (nm):

1030

Fused Silica (Corning 7980)

入射角 (°):

コーティングスペック:

R_avg >99.8%, GDD = -1000fs² @ 1010 - 1070nm (s-polarization)
R_abs >99.9% @ 1030nm (typical, s-polarization)

0.3 J/cm² @ 1030nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

反射率 @ DWL (%):

99.9 (typical, s-polarization)

GDD スペック:

-1000fs² @ 1010 - 1070nm

イレギュラリティ (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

法規制対応状況

RoHS 2015/863:

適合

適合証明書:

内容を見る

Reach 235:

適合

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エドモンド・オプティクスでは、お客様の特定のアプリケーション要件に合わせたオプティクスおよびイメージング部品の包括的な特注品製造サービスをご提供しています。試作段階でも量産準備中でも、お客様のニーズに応じた柔軟なソリューションをご用意しております。経験豊富なエンジニアが、構想から完成までサポートいたします。

当社の対応範囲には以下が含まれます:

特注寸法、材料、コーティングなど
高精度な表面品質と平面度
厳密な公差と複雑な形状
試作から量産まで対応可能な生産スケーラビリティ

詳細は特注品の製造能力をご覧いただくか、こちらからお問い合わせください。

商品詳細

パルス圧縮と分散補償用の超短パルス用チャープコーティング
最大99.9%超までの高反射率に精密制御された負の群遅延分散 (GDD)
チタンサファイア、Ybドープ、ツリウム (Tm)、ホルミウム (Ho) のウルトラファストレーザーシステム用をラインナップ

UltraFast Innovations (UFI) 高分散超短パルス用ミラーは、超短パルスのパルス圧縮と分散補償に向けて、分散光学干渉に基づく超短パルス用の多層チャープコーティングを採用しており、高い反射率と負の群遅延分散 (GDD) を実現します。3次およびそれ以上の高次分散の制御と高いビーム安定性に向けてデザインされたこのミラーは、チタンサファイア、Ybドープファイバー、薄ディスク、ツリウム (Tm)、およびホルミウム (Ho) のレーザーシステム用をラインナップしています。製品群の中は、広帯域性能、共振器内分散補償、および熱レンズ効果低減に向けたソリューションが含まれ、標準品のインチサイズに加えて、特殊なアプリケーション向けに特注のサイズ、波長、パルス仕様も対応可能です。

UFI 高分散超短パルス用ミラー 12.7mm 1030nm 7°

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概要

物理的および機械的特性

光学的特性

法規制対応状況

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