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UFI 高分散超短パルス用ミラー 25.4mm 2000nm 5°

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商品コード #11-414 5-7営業日
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タイプ:
Laser Mirror
代表的用途:
Thulium and Holmium Lasers
ウェッジ (分):
10
有効径 (%):
80
基板裏面側:
Commercial Polish
反射率 (@設計波長) (%):
>99.95
反射率 (Rp%):
99.9
コーティングスペック:
Ravg >99.9% @ 2000 - 2200nm (p-polarization)
GDD スペック:
-1000fs2 @ 2000 - 2200nm (p-polarization)
波長域 (nm):
2000 - 2200
イレギュラリティ (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
コーティングタイプ:
Dielectric
コーティング:
Chirped Ultrafast (2000-2200nm)
設計波長 DWL (nm):
2000
直径 (mm):
25.40 +0.0/-0.1
全厚 (mm):
6.35 ±0.01
入射角 (°):
5
基板: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)

環境規制対応状況

RoHS 2015/863:
適合証明書:
Reach 235:

製品群全体の紹介

  • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
  • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
  • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
  • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング

2μm 高分散広帯域超短パルスミラーは、ウルトラファスト用チャープコーティングを採用し、ツリウム (Tm) やホルミウム (Ho) レーザーのパルス圧縮や内部共振器の分散補償用にデザインされています。このミラーは、5°の入射角時に -1000fs2の高い負群遅延分散 (GDD) が得られ、100fs未満のパルス圧縮を可能にします。2000~2200nm間で99.9%を超える低損失反射率 (p偏光) が得られるこの2μm用ミラーは、99.95%を超える絶対反射率を実現します。2μm 高分散広帯域超短パルスミラーは、その卓越したスペクトル性能、低損失、実証済みのGDDから、2μm の薄型ディスクレーザー発振器内での使用に最適です。本高分散ミラーは、12.7mm径と25.4mm径の2つの標準サイズをラインナップし、フェムト秒レーザーシステム内への実装に理想的です。

 
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