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TS 高性能 超短パルス用レーザーミラー 25.4mm 320-370nm

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商品コード #12-464 5-7営業日
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表面品質 (キズ-ブツ):
10-5
タイプ:
Laser Mirror
代表的用途:
Yb:doped Lasers 3rd Harmonic
有効径 (%):
>80
基板裏面側:
Commercial Polish
コーティングスペック:
Rs >99.75% @ 320 - 370nm
Rp >99.5% @ 327 - 363nm
GDD スペック:
0 ±10fs2 @ 320 - 370nm (s-pol), @ 330 - 360nm (p-pol)
波長域 (nm):
320 - 370
平面度 (P-V):
λ/10
コーティングタイプ:
Dielectric
コーティング:
Ultrafast (320-370nm)
設計波長 DWL (nm):
343
直径 (mm):
25.40 +0.00/-0.10
全厚 (mm):
6.35 ±0.10
入射角 (°):
45
基板: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
平行度 (秒):
<10
損傷閾値, 設計上: Damage threshold for optical components varies by substrate material and coating. Click here to learn more about this specification.
0.55 J/cm2 @ 343nm, 180fs FWHM, S-polarization, 1 pulse (typical)
0.25 J/cm2 @ 343nm, 180fs FWHM, S-polarization, 1000 pulses (typical)
0.37 J/cm2 @ 343nm, 180fs FWHM, P-polarization, 1 pulse (typical)
0.22 J/cm2 @ 343nm, 180fs FWHM, P-polarization, 1000 pulses (typical)
0.35 J/cm2 @ 343 nm, 1 ps FWHM, 100 Hz, P-polarization, 1000 pulses

環境規制対応状況

RoHS 2015/863:
Reach 205:
適合証明書:

製品群全体の紹介

  • 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
  • イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
  • 設計波長域で 0±20fs2までの低GDD

TECHSPEC® 高性能 低GDD 超短パルス用ミラーは、0°か45°の入射角で高い反射率が得られるようにデザインされ、ウルトラファストレーザーを用いたビームステアリングアプリケーションに最適になります。このミラーは、精密なIBS (イオンビームスパッタリング) 蒸着工程を経て得られた分散補償コーティングを有し、従来の誘電体膜レーザーミラーよりも低散乱・低吸収特性が得られます。TECHSPEC 高性能 低GDD 超短パルス用ミラーは、その設計波長域でほぼゼロの群遅延分散 (GDD) があり、反射ビームの分散を最小化します。本ミラーの代表的用途に、フェムト秒レーザーのパルス伝播時での使用があります。

補足: ご使用のアプリケーションでTECHSPEC 低GDD 超短パルス用ミラーの波長、入射角、サイズに関する特注が必要となる場合は、お問い合わせください。

 
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