UltraFast Innovations (UFI) オーロラ XUV 位相リターダ
- 分散を加えることなく極端紫外 (XUV) 光を円偏光近くに変換
- 最大40%までの透過率
- 40–85eV (15-31nm) or 10–35eV (31-124nm) のスペクトル範囲オプション
UltraFast Innovations (UFI) 高分散超短パルス用ミラー
- パルス圧縮と分散補償用の超短パルス用チャープコーティング
- 最大99.9%超までの高反射率に精密制御された負の群遅延分散 (GDD)
- チタンサファイア、Ybドープ、ツリウム (Tm)、ホルミウム (Ho) のウルトラファストレーザーシステム用をラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー
- 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
- 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
- チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
UltraFast Innovations (UFI) 超広帯域 相補型チャープミラーペア
- チャープ-パルス増幅システムや超広帯域レーザー発振器に最適
- 分散補償をサポートする超広帯域デザイン
- -60fs2までの低い負GDDと高反射率 (>99%) @ 600 – 950nm or 650 - 1350nm
UltraFast Innovations (UFI) ハイパワー用低損失ミラー
- 1030nm & 1064nmで >99.99% の反射率
- 50 J/cm2 @ 1064nm, 100Hz, 8ns のレーザー損傷閾値
- ナノ秒, ピコ秒, およびフェムト秒レーザーパルス向けのユニバーサルデザイン
- 特注オプションで200mm径まで対応可能
UltraFast Innovations (UFI) 正分散 超短パルス用ミラー
- 5°入射で100fs2までの正GDD
- sとp偏光で99.5%超の高反射率
- 700 - 1100nmの広帯域性能
- 超短パルス用分散補償プリズムもラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラー
- -145fs2の負のGDD
- 255 - 277nm間で5°の入射角
- UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
- 独自のUV負分散超短パルス用コーティング
UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラー
- 5°の入射角度で500 fs2の正のGDD
- >99.9%の最小反射率 (p偏光)
- 2800 – 3600nmに対応する中赤外用広帯域コーティングデザイン
- 中赤外モードロックレーザーに最適
UltraFast Innovations (UFI) 3次分散 (TOD) 超短パルス用ミラー
- 7°入射で-2500fs3 までの高度3次負分散 (TOD)
- GDDの追加を招くことなくTODを相殺するのに最適
- 0fs2の低群遅延分散 (GDD)
- II-VI LightSmyth™ 透過型回折格子もラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV アト秒多層膜ミラー
- 330 アト秒パルス @ 65eV (19nm) 用にデザイン
- ピーク反射率38%の多層膜コーティング
- ≤1Å (オングストローム) の表面粗さのスーパーポリッシュ基板
- 13.5nmでデザインされた EUV 平面ミラー と EUV 球面ミラー もラインナップ
- 最低発注数量やコーティングのロットチャージなし
- 2022年度 Laser Focus World (LFW) イノベーターズアワード プラチナ賞受賞
もしくは 現地オフィス一覧をご覧ください
クイック見積りツール
商品コードを入力して開始しましょう
Copyright 2023, エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
[東京オフィス] 〒113-0021 東京都文京区本駒込2-29-24 パシフィックスクエア千石 4F
[秋田工場] 〒012-0801 秋田県湯沢市岩崎字壇ノ上3番地
The FUTURE Depends On Optics®