チャープミラー&高分散ミラー
チャープミラーは、超短パルスレーザーのパルスが光学媒体を伝播する際に発生するパルス拡がりを補償するチャープレーザーミラーコーティングを蒸着した分散補償ミラーです。高分散ミラー (HDM) は、高分散の多層膜チャープコーティングを蒸着しており、パルス圧縮や共振器内の分散補償に用いられます。チャープミラーや高分散ミラーは、対になった2枚のミラー間の反射回数を高めるために低入射角で、あるいは一般的なビームステアリング用には大きな入射角でデザインされています。この超短パルスミラーは、プリズムやグレーティングコンプレッサー代わりに用いることができ、よりコンパクトでアライメント不要のシステムを構築できる利点があります。これによって、GDDと三次および高次分散を補償し、より短いパルスの出力が可能になります。
エドモンド・オプティクスは、チタンサファイア、エルビウムドープファイバー、ツリウム (Tm)、ホルミウム (Ho) など、フェムト秒レーザー光源に使用できるチャープミラーや高分散ミラーのラインナップを拡充しています。このミラーは、超短パルス圧縮用の低入射角を持つものか、ビーム伝播中の超短パルス圧縮の45°など、より大きな入射角のものをラインナップします。特注仕様のチャープミラーや高分散ミラーが必要なアプリケーションの場合は、当社にご連絡ください。
UltraFast Innovations (UFI) 分散制御超短パルス用ミラー
- 分散制御、パルス圧縮、および分散補償用にデザイン
- 要求の厳しいレーザーアプリケーション用の高反射率コーティング
- 超短パルスレーザーシステム内への実装用に最適化
UltraFast Innovations (UFI) 超広帯域 相補型チャープミラーペア
- チャープ-パルス増幅システムや超広帯域レーザー発振器に最適
- 分散補償をサポートする超広帯域デザイン
- -60fs2までの低い負GDDと高反射率 (>99%) @ 600 – 950nm or 650 - 1350nm
UltraFast Innovations (UFI) 高分散超短パルス用ミラー
- パルス圧縮と分散補償用の超短パルス用チャープコーティング
- 最大99.9%超までの高反射率に精密制御された負の群遅延分散 (GDD)
- チタンサファイア、Ybドープ、ツリウム (Tm)、ホルミウム (Ho) のウルトラファストレーザーシステム用をラインナップ
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